蔻詩彌蝦青素肌肽精華面膜成分表和安全分析 | 沪G妆网备字2022017514

蔻詩彌蝦青素肌肽精華面膜

品牌：蔻詩彌
企業：復皙葯業（上海）有限公司
分類：其他面膜

成分	概略特性	風險	安心度
水 WATER@!@AQUA	溶劑		1
甘油 GLYCERIN	保濕		1-2
對羥基苯乙酮 HYDROXYACETOPHENONE	抗氧化		1
苯氧乙醇 PHENOXYETHANOL	防腐劑	一般防腐劑	2-4
山茶(CAMELLIA JAPONICA)花提取物 CAMELLIA JAPONICA FLOWER EXTRACT	緊緻,抗衰,皮膚調理,抗氧化,潤膚劑		1
卡波姆 CARBOMER	增稠劑		1
三乙醇胺 TRIETHANOLAMINE	pH調節劑	致痘風險等級（低）	6
甜菜鹼 BETAINE	保濕		1
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	保濕		1
蝦青素 ASTAXANTHIN	抗衰,抗氧化		1
黃原膠 XANTHAN GUM	增稠劑		1
羥乙基纖維素 HYDROXYETHYLCELLULOSE	增稠劑		1
肌肽 CARNOSINE	抗糖化,抗衰,舒緩,抗氧化,保濕		1
尿囊素 ALLANTOIN	舒緩,保濕		1
皺波角叉菜(CHONDRUS CRISPUS) CHONDRUS CRISPUS	皮膚調理,抗氧化,增稠劑
透明質酸鈉 SODIUM HYALURONATE	修護,舒緩,抗衰,保濕		1
高山火絨草(LEONTOPODIUM ALPINUM)花/葉提取物 LEONTOPODIUM ALPINUM FLOWER/LEAF EXTRACT	抗衰,舒緩,皮膚調理,抗氧化
庫拉索蘆薈(ALOE BARBADENSIS)提取物 ALOE BARBADENSIS EXTRACT	抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕		1-3
馬齒莧(PORTULACA OLERACEA)提取物 PORTULACA OLERACEA EXTRACT	抗衰,舒緩,抗氧化,保濕		1
賴氨酸 LYSINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電		1
組氨酸 HISTIDINE	皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電		1
精氨酸 ARGININE	保濕,潤膚劑,pH調節劑		1
天冬氨酸 ASPARTIC ACID	抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電		1
蘇氨酸 THREONINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電		1
絲氨酸 SERINE	皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電		1
谷氨酸 GLUTAMIC ACID	皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電		1
脯氨酸 PROLINE	皮膚調理,頭髮調理		1
甘氨酸 GLYCINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電		1
丙氨酸 ALANINE	皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電		1
纈氨酸 VALINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電		1
異亮氨酸 ISOLEUCINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,潤膚劑		1
亮氨酸 LEUCINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電		1
酪氨酸 TYROSINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電		1
苯丙氨酸 PHENYLALANINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電		1
泛醇 PANTHENOL@!@UBIQUINOL	舒緩,修護,皮膚保護,抗氧化,保濕		1
檸檬酸 CITRIC ACID	去角質,pH調節劑		1-2
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	保濕		1
EDTA 二鈉 DISODIUM EDTA	螯合劑		1
乙基己基甘油 ETHYLHEXYLGLYCERIN	皮膚調理,保濕		2

溫馨提示：
1、綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。