溫度377光耀芯肌提亮面膜
品牌:溫度
企業:廣州米拉夫洛化妝品有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
甘油聚醚-26
GLYCERETH-26
保濕,表面活性劑,黏度控制 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
歐洲鱗毛蕨(DRYOPTERIS FILIX-MAS)根提取物
DRYOPTERIS FILIX-MAS ROOT EXTRACT
皮膚調理
1,3-丙二醇
PROPANEDIOL
保濕,增稠劑,溶劑,黏度控制 2
檸檬酸
CITRIC ACID
去黑頭,去角質,保濕,螯合劑,pH調節劑 1-2
泥煤提取物
PEAT EXTRACT
皮膚調理 1
冰島地衣(CETRARIA ISLANDICA)提取物
CETRARIA ISLANDICA EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,柔潤劑,清潔劑 1
二裂酵母發酵產物溶胞產物
BIFIDA FERMENT LYSATE
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
馬齒莧(PORTULACA OLERACEA)提取物
PORTULACA OLERACEA EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
椰油基葡糖苷
COCO-GLUCOSIDE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
辛酸/癸酸甘油三酯
CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE
修護,皮膚調理,柔潤劑,溶劑 1
聚甘油-10 硬脂酸酯
POLYGLYCERYL-10 STEARATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕 1
苯乙基間苯二酚
PHENYLETHYL RESORCINOL
抗氧化 1
甘草亭酸
GLYCYRRHETINIC ACID
皮膚調理,抗衰 1
卵磷脂
LECITHIN
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1-2
生育酚乙酸酯
TOCOPHERYL ACETATE
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 2-3
3-鄰-乙基抗壞血酸
3-o-ETHYL ASCORBIC ACID
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
異壬酸異壬酯
ISONONYL ISONONANOATE
皮膚調理,抗靜電,柔潤劑 1
α-熊果苷
ALPHA-ARBUTIN
皮膚調理,抗氧化 1
抗壞血酸(維生素C)
ASCORBIC ACID
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
羥苯基丙酰胺苯甲酸
HYDROXYPHENYL PROPAMIDOBENZOIC ACID
皮膚調理 1
小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
SCLEROTIUM GUM
皮膚調理,成膜劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
PEG/PPG-17/6 共聚物
PEG/PPG-17/6 COPOLYMER
溶劑,表面活性劑 含PEG的成分 3
PEG/PPG/聚丁二醇-8/5/3 甘油
PEG/PPG/POLYBUTYLENE GLYCOL-8/5/3 GLYCERIN
保濕 含PEG的成分 3
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 5
丙烯酸(酯)類/C10-30 烷醇丙烯酸酯交聯聚合物
ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER
增稠劑,成膜劑,表面活性劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
羥乙基纖維素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
頭髮調理,增稠劑,成膜劑,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
雙丙甘醇
DIPROPYLENE GLYCOL
保濕,溶劑,黏度控制 1-2
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
異戊二醇
ISOPENTYLDIOL
保濕,溶劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。