植萃肌密氨基酸潔面慕斯
品牌:植萃肌密
企業:瀋陽睿路美業科技有限公司
分類:潔面泡沫
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
月桂酰燕麥氨基酸鈉
SODIUM LAUROYL OAT AMINO ACIDS
抗靜電,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑,乳化劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
椰油酰基蘋果氨基酸鈉
SODIUM COCOYL APPLE AMINO ACIDS
皮膚調理,頭髮調理,增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
椰油酰胺丙基甜菜鹼
COCAMIDOPROPYL BETAINE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1-5
乳酸桿菌發酵產物
LACTOBACILLUS FERMENT
抗衰,祛痘,保濕 1
甲基椰油酰基牛磺酸鈉
SODIUM METHYL COCOYL TAURATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 1
椰油酰谷氨酸二鈉
DISODIUM COCOYL GLUTAMATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
麥芽寡糖葡糖苷
MALTOOLIGOSYL GLUCOSIDE
皮膚調理,成膜劑,粘合劑 1
氯化鈉
SODIUM CHLORIDE
皮膚調理,口腔護理,乳化穩定劑 1
氫化澱粉水解物
HYDROGENATED STARCH HYDROLYSATE
皮膚調理,保濕 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去角質,pH調節劑 1-2
己二醇
HEXYLENE GLYCOL
保濕 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
PCA 鈉
SODIUM PCA
保濕,抗靜電 1
α-葡聚糖寡糖
ALPHA-GLUCAN OLIGOSACCHARIDE
皮膚調理 1
低聚果糖
FRUCTOOLIGOSACCHARIDES
皮膚調理,保濕 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
EDTA 四鈉
TETRASODIUM EDTA
螯合劑 2
谷氨酸二乙酸四鈉
TETRASODIUM GLUTAMATE DIACETATE
螯合劑 1
苯甲酸鈉
SODIUM BENZOATE
防腐劑 一般防腐劑 1-3
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
黃原膠
XANTHAN GUM
增稠劑 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕 2
乳酸桿菌
LACTOBACILLUS
皮膚調理,抗氧化
山梨(糖)醇
SORBITOL
保濕 1
絲氨酸
SERINE
頭髮調理,保濕,抗靜電 1
甘氨酸
GLYCINE
抗衰,皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
丙氨酸
ALANINE
抗氧化,抗衰,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
精氨酸
ARGININE
保濕,潤膚劑,pH調節劑 1
蘇氨酸
THREONINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。