香雪蘭凈卸溶妝沁爽光滑水漾卸妝乳
品牌:香雪蘭
企業:廣州市勝梅化妝品有限公司
分類:卸妝乳
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
辛酸/癸酸甘油三酯
CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE
潤膚劑 1
PEG-100 硬脂酸酯
PEG-100 STEARATE
乳化劑 、含PEG的成分 1-3
聚二甲基硅氧烷
DIMETHICONE
頭髮調理,潤膚劑 硅油、 2-4
牛油果樹(BUTYROSPERMUM PARKII)果脂
BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER
舒緩,抗衰,皮膚調理,保濕,潤膚劑 1
鯨蠟硬脂醇
CETEARYL ALCOHOL
皮膚調理,乳化穩定劑 1
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
水解膠原
HYDROLYZED COLLAGEN
抗衰,皮膚調理,頭髮調理,保濕,成膜劑,抗靜電,潤膚劑 1
二裂酵母發酵產物濾液
BIFIDA FERMENT FILTRATE
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
卡波姆
CARBOMER
增稠劑 1
甘油葡糖苷
GLYCERYL GLUCOSIDE
抗氧化,保濕 1
肌肽
CARNOSINE
抗糖化,抗衰,舒緩,抗氧化,保濕 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
香精
PARFUM@!@AROMA
香精香料 香精香料
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑 1
氫氧化鉀
POTASSIUM HYDROXIDE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑 2-5
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
乳酸桿菌/豆漿發酵產物濾液
LACTOBACILLUS/SOYMILK FERMENT FILTRATE
修護 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕 2
粉防己(STEPHANIA TETRANDRA)提取物
STEPHANIA TETRANDRA EXTRACT
舒緩,收斂
羥基乙酸
GLYCOLIC ACID
祛痘,去角質,pH調節劑 1-4
柚(CITRUS GRANDIS)提取物
CITRUS GRANDIS (GRAPEFRUIT) EXTRACT
皮膚調理
乳酸
LACTIC ACID
祛痘,去角質,保濕,pH調節劑 1-4
硅酸鎂鈉
SODIUM MAGNESIUM SILICATE
填充劑,增稠劑,粘合劑,黏度控制 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去角質,pH調節劑 1-2
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
保濕 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
乙酸鈉
SODIUM ACETATE
pH調節劑 1
黃原膠
XANTHAN GUM
增稠劑 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
精氨酸
ARGININE
保濕,潤膚劑,pH調節劑 1
酪氨酸
TYROSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
苯丙氨酸
PHENYLALANINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
蘇氨酸
THREONINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,潤膚劑 1
組氨酸
HISTIDINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。