植本韻水光優化面膜
品牌:植本
企業:廣州熙源化妝品有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
甲基丙二醇
METHYLPROPANEDIOL
溶劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
保濕 3
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
卡波姆
CARBOMER
增稠劑 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
pH調節劑 致痘風險等級(低) 6
雙(羥甲基)咪唑烷基脲
DIAZOLIDINYL UREA
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、甲醛釋放體防腐劑 5
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
舒緩,保濕 1
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
尿囊素
ALLANTOIN
舒緩,保濕 1
羥乙基纖維素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
增稠劑 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去角質,pH調節劑 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
PEG-40 氫化蓖麻油
PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL
乳化劑 含PEG的成分 1-3
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
修護,抗衰,舒緩,保濕 1
3-鄰-乙基抗壞血酸
3-o-ETHYL ASCORBIC ACID
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
碘丙炔醇丁基氨甲酸酯
IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
防腐劑 一般防腐劑 5-6
香精
PARFUM@!@AROMA
香精香料 香精香料
燕麥(AVENA SATIVA)β-葡聚糖
OAT BETA GLUCAN
抗衰,抗氧化 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
聚山梨醇酯-60
POLYSORBATE 60
乳化劑 1-3
磷酸氫二鈉
DISODIUM PHOSPHATE
pH調節劑 1
煙酰胺
NIACINAMIDE
緊緻,抗糖化,抗氧化,保濕 1
磷酸二氫鈉
SODIUM PHOSPHATE
pH調節劑 1
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
保濕,舒緩,皮膚調理 1
玄參(SCROPHULARIA NINGPOENSIS)提取物
SCROPHULARIA NINGPOENSIS EXTRACT
皮膚調理
芍藥(PAEONIA ALBIFLORA)根提取物
PAEONIA ALBIFLORA ROOT EXTRACT
抗衰,舒緩,抗氧化,保濕 1
水解人蔘皂草苷類
HYDROLYZED GINSENG SAPONINS
抗衰,祛痘,皮膚調理,抗氧化,潤膚劑 1
馬齒莧(PORTULACA OLERACEA)提取物
PORTULACA OLERACEA EXTRACT
抗衰,舒緩,抗氧化,保濕 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。