美迪惠爾茶樹維穩面膜成分表和安全分析 | 国妆网备进字（沪）2022004518

美迪惠爾茶樹維穩面膜

品牌：美迪惠爾
企業：愛恩琵化妝品有限公司
分類：其他面膜

成分	概略特性	風險	安心度
水 WATER@!@AQUA	溶劑		1
甘油 GLYCERIN	保濕		1-2
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	保濕		1
1,3-丙二醇 PROPANEDIOL	保濕		2
甲基丙二醇 METHYLPROPANEDIOL	溶劑		1
泛醇 PANTHENOL@!@UBIQUINOL	抗氧化,保濕		1
海藻糖 TREHALOSE	保濕		1
對羥基苯乙酮 HYDROXYACETOPHENONE	抗氧化		1
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	保濕		1
互生葉白千層(MELALEUCA ALTERNIFOLIA)提取物 MELALEUCA ALTERNIFOLIA (TEA TREE) EXTRACT	皮膚調理,收斂,抗氧化,皮膚滲透劑		1
尿囊素 ALLANTOIN	修護,保濕		1
甜菜鹼 BETAINE	保濕		1
互生葉白千層(MELALEUCA ALTERNIFOLIA)葉水 MELALEUCA ALTERNIFOLIA (TEA TREE) LEAF WATER	皮膚調理,收斂,控油		1
乳酸桿菌發酵產物 LACTOBACILLUS FERMENT	抗衰,祛痘,皮膚調理,保濕,頭髮調理		1
腺苷 ADENOSINE	抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕		1
EDTA 二鈉 DISODIUM EDTA	螯合劑		1
卡波姆 CARBOMER	增稠劑		1
精氨酸 ARGININE	皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑		1
辛基十二醇聚醚-16 OCTYLDODECETH-16	乳化劑		1
黃原膠 XANTHAN GUM	增稠劑		1
互生葉白千層(MELALEUCA ALTERNIFOLIA)葉油 MELALEUCA ALTERNIFOLIA (TEA TREE) LEAF OIL	祛痘,皮膚調理,抗氧化,保濕		6
甘氨酸 GLYCINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電		1
谷氨酸 GLUTAMIC ACID	皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電		1
天冬氨酸 ASPARTIC ACID	抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電		1
聚丙烯酸鈉 SODIUM POLYACRYLATE	發用定型,增稠劑		2
氯化鈉 SODIUM CHLORIDE	皮膚調理,口腔護理,乳化穩定劑		1
絲氨酸 SERINE	皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電		1
組氨酸 HISTIDINE	皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電		1
脯氨酸 PROLINE	皮膚調理,頭髮調理		1
丙氨酸 ALANINE	皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電		1
蘇氨酸 THREONINE	皮膚調理,頭髮調理,抗靜電		1
4-萜品醇 4-TERPINEOL	抗氧化,吸附劑,香精香料	香精香料
丙烯酸(酯)類/C10-30 烷醇丙烯酸酯交聯聚合物 ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER	增稠劑		1
氯化鎂 MAGNESIUM CHLORIDE	黏度控制		1
氯化鈣 CALCIUM CHLORIDE	皮膚調理,收斂,增稠劑,黏度控制		1

溫馨提示：
1、綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。