頂蔻 清肌凈澈潔面乳
品牌:頂蔻
企業:廣州臻顏化妝品有限公司
分類:潔面乳
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
棕櫚酸
PALMITIC ACID
潤膚劑,清潔劑,表面活性劑 致痘風險等級(低) 1
硬脂酸
STEARIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化穩定劑 致痘風險等級(低) 1
肉豆蔻酸
MYRISTIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(中) 1
氫氧化鉀
POTASSIUM HYDROXIDE
清潔劑,pH調節劑,表面活性劑 2-5
月桂酸
LAURIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(高) 1
月桂酰肌氨酸鈉
SODIUM LAUROYL SARCOSINATE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 1-3
異硬脂酰乳酰乳酸鈉
SODIUM ISOSTEAROYL LACTYLATE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1
麥芽寡糖葡糖苷
MALTOOLIGOSYL GLUCOSIDE
皮膚調理,成膜劑,粘合劑 1
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料
氫化澱粉水解物
HYDROGENATED STARCH HYDROLYSATE
皮膚調理,保濕 1
DMDM 乙內酰脲
DMDM HYDANTOIN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、甲醛釋放體防腐劑 6
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑 1
羥苯丙酯
PROPYLPARABEN
防腐劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 9
丙烯酰胺丙基三甲基氯化銨/丙烯酰胺共聚物
ACRYLAMIDOPROPYLTRIMONIUM CHLORIDE/ACRYLAMIDE COPOLYMER
發用定型,成膜劑,抗靜電 1-4
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
保濕,溶劑 1
碘丙炔醇丁基氨甲酸酯
IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
防腐劑 一般防腐劑 5-6
歐蒲公英(TARAXACUM OFFICINALE)根莖/根提取物
TARAXACUM OFFICINALE (DANDELION) RHIZOME/ROOT EXTRACT
舒緩,皮膚調理 1
紫花地丁(VIOLA YEDOENSIS)提取物
VIOLA YEDOENSIS EXTRACT
皮膚調理
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒緩,皮膚調理,抗氧化 2
芍藥(PAEONIA LACTIFLORA)根提取物
PAEONIA LACTIFLORA ROOT EXTRACT@!@SHAKUYAKU EKISU
皮膚調理,抗氧化 1
忍冬(LONICERA JAPONICA)花提取物
LONICERA JAPONICA (HONEYSUCKLE) FLOWER EXTRACT
皮膚調理,抗氧化
月桂酰谷氨酸鈉
SODIUM LAUROYL GLUTAMATE
頭髮調理,清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 1
歐錦葵(MALVA SYLVESTRIS)花提取物
MALVA SYLVESTRIS (MALLOW) FLOWER EXTRACT
皮膚調理 1
庫拉索蘆薈(ALOE BARBADENSIS)葉汁
ALOE BARBADENSIS LEAF JUICE
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1-3
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕 2

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。