先方美肌洗面奶
品牌:先方
企業:深圳市華彩世紀化妝品有限公司
分類:潔面乳
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
椰油酰谷氨酸
COCOYL GLUTAMIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑
甲基椰油酰基牛磺酸鈉
SODIUM METHYL COCOYL TAURATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
保濕 3
氯化鈉
SODIUM CHLORIDE
皮膚調理,口腔護理,乳化穩定劑 1
氫氧化鈉
SODIUM HYDROXIDE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑 1-4
月桂基葡糖苷
LAURYL GLUCOSIDE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 2
鯨蠟硬脂醇聚醚-60 肉豆蔻基甘醇
CETEARETH-60 MYRISTYL GLYCOL
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1-3
聚山梨醇酯-20
POLYSORBATE 20
乳化劑 1-3
PCA 鈉
SODIUM PCA
保濕,抗靜電 1
PEG-120 甲基葡糖二油酸酯
PEG-120 METHYL GLUCOSE DIOLEATE
增稠劑 、含PEG的成分 1-3
月桂酰肌氨酸鈉
SODIUM LAUROYL SARCOSINATE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 1-3
雙(羥甲基)咪唑烷基脲
DIAZOLIDINYL UREA
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、甲醛釋放體防腐劑 5
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑 1
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料
硫酸鈉
SODIUM SULFATE
填充劑,增稠劑,黏度控制 1
肌氨酸
SARCOSINE
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
碘丙炔醇丁基氨甲酸酯
IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
防腐劑 一般防腐劑 5-6

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。