艾芙媞石斛水光蠶絲面膜
品牌:艾芙
企業:廣州珠緣網路服務有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
甘油聚醚-26
GLYCERETH-26
保濕,表面活性劑,黏度控制 1
β-葡聚糖
BETA-GLUCAN
修護,舒敏,皮膚調理,保濕 1
己二醇
HEXYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,清潔劑,溶劑,表面活性劑,乳化劑 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
丙烯酸鈉/丙烯酰二甲基牛磺酸鈉共聚物
SODIUM ACRYLATE/SODIUM ACRYLOYLDIMETHYL TAURATE COPOLYMER
增稠劑,成膜劑,抗結塊劑,黏度控制,不透明劑,乳化穩定劑 1
異十六烷
ISOHEXADECANE
皮膚調理,柔潤劑,溶劑 1
水解豌豆蛋白
HYDROLYZED PEA PROTEIN
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑,乳化穩定劑 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 5
小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
SCLEROTIUM GUM
皮膚調理,成膜劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
羥乙基纖維素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
頭髮調理,增稠劑,成膜劑,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
細莖石斛(DENDROBIUM CANDIDUM)提取物
DENDROBIUM CANDIDUM EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,柔潤劑
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)子實體提取物
TREMELLA FUCIFORMIS SPOROCARP EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕 1
抗壞血酸(維生素C)
ASCORBIC ACID
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
生育酚(維生素E)
TOCOPHEROL
修護,抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 致痘風險等級(低) 1
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑 1
吡哆素
PYRIDOXINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑 1
葉酸
FOLIC ACID
皮膚調理,柔潤劑 1
生物素
BIOTIN
皮膚調理,控油,頭髮調理,皮膚滲透劑 1
視黃醇
RETINOL
修護,抗衰,祛痘,皮膚調理,抗氧化 孕婦慎用成分 9

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。