綻姿芳顏膠原凈膚潔面乳
品牌:綻姿芳顏
企業:廣州市再美點化妝品有限公司
分類:潔面乳
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
月桂酰肌氨酸鈉
SODIUM LAUROYL SARCOSINATE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 1-3
椰油酰胺丙基甜菜鹼
COCAMIDOPROPYL BETAINE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1-5
全氟丁基甲醚
METHYL PERFLUOROBUTYL ETHER
潤膚劑,溶劑,黏度控制 10
C12-20 烷基葡糖苷
C12-20 ALKYL GLUCOSIDE
增稠劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 2
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
辛酸/癸酸甘油酯類聚甘油-10 酯類
CAPRYLIC/CAPRIC GLYCERIDES POLYGLYCERYL-10 ESTERS
皮膚調理,潤膚劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑,乳化穩定劑 1
丙烯酸(酯)類/C10-30 烷醇丙烯酸酯交聯聚合物
ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER
增稠劑 1
蠶絲膠蛋白
SERICIN
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
pH調節劑 致痘風險等級(低) 6
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
舒緩,保濕 1
黃原膠
XANTHAN GUM
增稠劑 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
乳酸鈉
SODIUM LACTATE
去角質,保濕,pH調節劑 1-3
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
甘草(GLYCYRRHIZA URALENSIS)根提取物
GLYCYRRHIZA URALENSIS (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒緩,抗氧化 4
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,潤膚劑 1
精氨酸
ARGININE
保濕,潤膚劑,pH調節劑 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
氫氧化鉀
POTASSIUM HYDROXIDE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑 2-5
檸檬酸
CITRIC ACID
去角質,pH調節劑 1-2
乙醇
ALCOHOL
溶劑 酒精 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。