霓凈思乙基維生素C美白晚安面膜
品牌:霓凈思
企業:德典生技股份有限公司
分類:貼片面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
糖基海藻糖
GLYCOSYL TREHALOSE
皮膚調理,保濕,成膜劑,乳化穩定劑 1
氫化澱粉水解物
HYDROGENATED STARCH HYDROLYSATE
皮膚調理,保濕 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
保濕 3
蘋果酸
MALIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,去角質,pH調節劑 1-4
軟骨素硫酸鈉
SODIUM CHONDROITIN SULFATE
抗衰,皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
聚二甲基硅氧烷
DIMETHICONE
頭髮調理,柔潤劑 硅油、 1-3
聚二甲基硅氧烷醇
DIMETHICONOL
頭髮調理,柔潤劑 硅油 1
環五聚二甲基硅氧烷
CYCLOPENTASILOXANE
頭髮調理,柔潤劑 硅油 3
煙酰胺
NIACINAMIDE
保濕,抗糖化,抗氧化 1
碳酸二辛酯
DICAPRYLYL CARBONATE
皮膚調理,柔潤劑 1
乙氧基二甘醇
ETHOXYDIGLYCOL
保濕,增溶劑,溶劑 1-2
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
pH調節劑 致痘風險等級(低) 5
丙烯酸(酯)類/C10-30 烷醇丙烯酸酯交聯聚合物
ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER
增稠劑 1
丙烯酰二甲基牛磺酸銨/VP 共聚物
AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER
增稠劑,黏度控制 1
霍霍巴蠟 PEG-120 酯類
JOJOBA WAX PEG-120 ESTERS
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 3
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
氯苯甘醚
CHLORPHENESIN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 3
尿囊素
ALLANTOIN
修護,保濕 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑 1
鄰傘花烴-5-醇
o-CYMEN-5-OL
氣味抑製劑,防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 1-2
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
保濕 1
3-鄰-乙基抗壞血酸
3-o-ETHYL ASCORBIC ACID
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
荔枝(LITCHI CHINENSIS)果皮提取物
LITCHI CHINENSIS PERICARP EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
甘露糖醇
MANNITOL
皮膚調理,保濕,粘合劑 1
葡糖酸鈉
SODIUM GLUCONATE
皮膚調理,螯合劑 1
阿魏酸
FERULIC ACID
抗衰,抗氧化 1-2
糊精
DEXTRIN
填充劑 1
蛇婆子(WALTHERIA INDICA)葉提取物
WALTHERIA INDICA LEAF EXTRACT
皮膚調理 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去角質,pH調節劑 1-2
檸檬酸鈉
SODIUM CITRATE
螯合劑,pH調節劑 1
抗壞血酸磷酸酯鈉
SODIUM ASCORBYL PHOSPHATE
抗氧化 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。