解憂公主薰衣草精油潔面乳
品牌:解憂公主
企業:解憂公主(廣州)生物科技有限公司
分類:潔面乳
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
肉豆蔻酸
MYRISTIC ACID
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(中) 1
棕櫚酸
PALMITIC ACID
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 1
月桂酸
LAURIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(高) 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
硬脂酸
STEARIC ACID
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,賦脂劑,乳化劑,乳化穩定劑 致痘風險等級(低) 1
氫氧化鉀
POTASSIUM HYDROXIDE
pH調節劑 2-5
癸酸
CAPRIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
甘油硬脂酸酯檸檬酸酯
GLYCERYL STEARATE CITRATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
乙二醇二硬脂酸酯
GLYCOL DISTEARATE
皮膚調理,頭髮調理,增稠劑,柔潤劑,表面活性劑,黏度控制,不透明劑,乳化劑 1
乙二醇
GLYCOL
保濕,溶劑,黏度控制 6
椰油酰谷氨酸鈉
SODIUM COCOYL GLUTAMATE@!@SODIUM COCOYL GLUTAMINATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
半胱氨酸
CYSTEINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
組氨酸
HISTIDINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
PEG/PPG-25/30 共聚物
PEG/PPG-25/30 COPOLYMER
溶劑 含PEG的成分 3
PEG/PPG-10/30 共聚物
PEG/PPG-10/30 COPOLYMER
清潔劑,溶劑,表面活性劑 含PEG的成分
膨潤土
BENTONITE
吸附劑,填充劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1-2
聚季銨鹽-7
POLYQUATERNIUM-7
成膜劑,抗靜電 1-4
薰衣草(LAVANDULA ANGUSTIFOLIA)油
LAVANDULA ANGUSTIFOLIA (LAVENDER) OIL
皮膚調理 2
DMDM 乙內酰脲
DMDM HYDANTOIN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、甲醛釋放體防腐劑 6
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
卵磷脂
LECITHIN
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1-2
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附劑,香精香料 香精香料

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。