苗芳青顏水能量·磁泉面膜
品牌:苗芳青顏
企業:哈爾濱苗方清顏商貿有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
聚甘油-10
POLYGLYCERIN-10
皮膚調理,保濕 1
松蕈(ARMILLARIA MATSUTAKE)提取物
ARMILLARIA MATSUTAKE EXTRACT
海藻糖
TREHALOSE
皮膚調理,保濕,柔潤劑 1
甘露聚糖
MANNAN
成膜劑 1
燕麥(AVENA SATIVA)β-葡聚糖
OAT BETA GLUCAN
抗衰,抗氧化 1
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS EXTRACT
抗氧化 1
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
野大豆(GLYCINE SOJA)籽提取物
GLYCINE SOJA (SOYBEAN) SEED EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
雙(羥甲基)咪唑烷基脲
DIAZOLIDINYL UREA
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、甲醛釋放體防腐劑 5
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
羥苯丙酯
PROPYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 9
丙烯酰二甲基牛磺酸銨/VP 共聚物
AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER
增稠劑,黏度控制 1
水解小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
HYDROLYZED SCLEROTIUM GUM
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,成膜劑
甲基異噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、MIT/CMIT防腐劑 7
透明質酸
HYALURONIC ACID
修護,皮膚調理,保濕,抗靜電 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。