彬萱 3D微導修護面膜
品牌:彬萱
企業:上海鉅琭貿易有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
雙丙甘醇
DIPROPYLENE GLYCOL
保濕,溶劑,黏度控制 1-2
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
甘油丙烯酸酯/丙烯酸共聚物
GLYCERYL ACRYLATE/ACRYLIC ACID COPOLYMER
保濕,黏度控制 1
甘油聚丙烯酸酯
GLYCERYL POLYACRYLATE
成膜劑 1-3
PVM/MA 共聚物
PVM/MA COPOLYMER
發用定型,增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
PPG-26-丁醇聚醚-26
PPG-26-BUTETH-26
皮膚調理,頭髮調理,表面活性劑,乳化劑 1-2
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
聚山梨醇酯-20
POLYSORBATE 20
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 3
棕櫚酰三肽-1/棕櫚酰六肽-12
PALMITOYL TRIPEPTIDE-1/PALMITOYL HEXAPEPTIDE-12
抗衰,皮膚調理,柔潤劑,清潔劑,表面活性劑 1
棕櫚酰四肽-7
PALMITOYL TETRAPEPTIDE-7
抗衰,皮膚調理 1
乳酸鈉
SODIUM LACTATE
去角質,保濕,pH調節劑 1-3
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑 1
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
氫氧化鉀
POTASSIUM HYDROXIDE
pH調節劑 2-5
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去黑頭,去角質,保濕,螯合劑,pH調節劑 1-2
粉防己(STEPHANIA TETRANDRA)提取物
STEPHANIA TETRANDRA EXTRACT
舒敏,收斂
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
PEG-40 氫化蓖麻油
PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 1-3
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
水解小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
HYDROLYZED SCLEROTIUM GUM
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,成膜劑
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
四氫甲基嘧啶羧酸
ECTOIN
修護,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
龍舌蘭(AGAVE AMERICANA)莖提取物
AGAVE AMERICANA STEM EXTRACT
皮膚調理 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。