正物雜良煙酰胺原液
品牌：正物雜良
企業：廣州范丘琦化妝品有限公司
分類：基底液/美容液/原液
企業：廣州范丘琦化妝品有限公司
分類：基底液/美容液/原液
| 成分 | 概略特性 | 活性 | 風險 | 安心度 |
|---|---|---|---|---|
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水
WATER@!@AQUA
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溶劑 | 1 | ||
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丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
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皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 | 3 | ||
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甜菜鹼
BETAINE
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皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 | 1 | ||
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丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
|
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 | 1 | ||
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甘油
GLYCERIN
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皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 | 1-2 | ||
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羥乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
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皮膚調理,頭髮調理,保濕 |
|
1 | |
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甘油聚甲基丙烯酸酯
GLYCERYL POLYMETHACRYLATE
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保濕,增稠劑,成膜劑,黏度控制 | 1 | ||
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PVM/MA 共聚物
PVM/MA COPOLYMER
|
發用定型,增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 | 1 | ||
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海藻糖
TREHALOSE
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皮膚調理,保濕,柔潤劑 |
|
1 | |
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煙酰胺
NIACINAMIDE
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抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕 |
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1 | |
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3-鄰-乙基抗壞血酸
3-o-ETHYL ASCORBIC ACID
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皮膚調理,抗氧化,保濕 |
|
1 | |
|
α-熊果苷
ALPHA-ARBUTIN
|
皮膚調理,抗氧化 |
|
1 | |
|
粉防己(STEPHANIA TETRANDRA)提取物
STEPHANIA TETRANDRA EXTRACT
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舒敏,收斂 |
|
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透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
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抗衰,皮膚調理,保濕 |
|
1 | |
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卡波姆
CARBOMER
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膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 | 1 | ||
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三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
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清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 | 致痘風險等級（低） | 5 | |
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羥苯甲酯
METHYLPARABEN
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防腐劑,不透明劑 | 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 | 3-4 | |
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甲基異噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
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防腐劑,不透明劑 | 一般防腐劑、MIT/CMIT防腐劑 | 7 | |
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碘丙炔醇丁基氨甲酸酯
IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE
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防腐劑,不透明劑 | 一般防腐劑 | 4-5 |
溫馨提示：
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。