植然方適精研舒緩修護面膜
品牌:植然方適
分類:貼片面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
乳酸桿菌發酵產物
LACTOBACILLUS FERMENT
抗衰,祛痘,皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
保濕 1
卡波姆
CARBOMER
增稠劑 1
氨丁三醇
TROMETHAMINE
pH調節劑 1-2
尿囊素
ALLANTOIN
保濕 1
二裂酵母發酵產物溶胞產物
BIFIDA FERMENT LYSATE
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
鐵皮石斛(DENDROBIUM OFFICINALE)莖提取物
DENDROBIUM OFFICINALE STEM EXTRACT
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
保濕 1
四氫甲基嘧啶羧酸
ECTOIN
修護,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
保濕 1
柑橘(CITRUS RETICULATA)果提取物
CITRUS RETICULATA (TANGERINE) FRUIT EXTRACT
抗衰,皮膚防護,抗氧化 1-2
羥苯基丙酰胺苯甲酸
HYDROXYPHENYL PROPAMIDOBENZOIC ACID
皮膚調理 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑 1
馬齒莧(PORTULACA OLERACEA)提取物
PORTULACA OLERACEA EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
甜菜(BETA VULGARIS)根提取物
BETA VULGARIS (BEET) ROOT EXTRACT
皮膚調理 1
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收斂,抗氧化,保濕 1
番石榴(PSIDIUM GUAJAVA)葉提取物
PSIDIUM GUAJAVA LEAF EXTRACT
皮膚調理,收斂,抗氧化 1
脹果甘草(GLYCYRRHIZA INFLATA)根提取物
GLYCYRRHIZA INFLATA ROOT EXTRACT
皮膚調理 1
苦參(SOPHORA FLAVESCENS)根提取物
SOPHORA FLAVESCENS ROOT EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,柔潤劑
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕,柔潤劑 1-2
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
洋薔薇(ROSA CENTIFOLIA)花提取物
ROSA CENTIFOLIA FLOWER EXTRACT
舒敏,皮膚調理,收斂,抗氧化 3
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
α-葡聚糖寡糖
ALPHA-GLUCAN OLIGOSACCHARIDE
皮膚調理 1
抗壞血酸棕櫚酸酯
ASCORBYL PALMITATE
抗衰,皮膚調理,抗氧化 致痘風險等級(低) 1
苯甲酸鈉
SODIUM BENZOATE
防腐劑 一般防腐劑 1-3
乙酸
ACETIC ACID
pH調節劑 1
菊薯(POLYMNIA SONCHIFOLIA)根汁
POLYMNIA SONCHIFOLIA ROOT JUICE
皮膚調理 1
乳酸
LACTIC ACID
去角質,pH調節劑 1-4
麥芽糊精
MALTODEXTRIN
皮膚調理,頭髮調理,吸附劑,成膜劑,粘合劑,乳化穩定劑 1
巴爾幹苣苔(HABERLEA RHODOPENSIS)葉提取物
HABERLEA RHODOPENSIS LEAF EXTRACT
皮膚調理,柔潤劑 1
酵母提取物
YEAST EXTRACT@!@FAEX
修護,抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
乳酸桿菌
LACTOBACILLUS
皮膚調理,抗氧化

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。