H+T玻尿酸魔法絲滑面膜
品牌:H+T
企業:上海彤顏化妝品有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
油橄欖(OLEA EUROPAEA)果油
OLEA EUROPAEA (OLIVE) FRUIT OIL
皮膚調理,柔潤劑
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
葉酸
FOLIC ACID
皮膚調理,柔潤劑 1
聚谷氨酸
POLYGLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕 1
丙烯酰二甲基牛磺酸銨/VP 共聚物
AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER
增稠劑,黏度控制 1
生育酚乙酸酯
TOCOPHERYL ACETATE
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 2-3
β-葡聚糖
BETA-GLUCAN
修護,舒敏,皮膚調理,保濕 1
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕,柔潤劑 1-2
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)提取物
ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) EXTRACT
抗衰,收斂,抗氧化,清涼劑 2
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,抗衰 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收斂,抗氧化,保濕 1
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附劑,香精香料 香精香料
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
CI 42090
CI 42090@!@AO1@!@AO205
著色劑 色素 2-7

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。