XEQ方程式卵磷脂修護潔面乳
品牌:XEQ
企業:上海恆極美司生物科技有限公司
分類:潔面乳
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
羥丙基澱粉磷酸酯
HYDROXYPROPYL STARCH PHOSPHATE
皮膚調理,填充劑,增稠劑,柔潤劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
聚山梨醇酯-60
POLYSORBATE 60
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 3
低芥酸菜子油
CANOLA OIL@!@canola
皮膚調理,柔潤劑 1
牛油果樹(BUTYROSPERMUM PARKII)果脂
BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER
皮膚調理,柔潤劑 1
丙烯酸(酯)類共聚物
ACRYLATES COPOLYMER
成膜劑,抗靜電,粘合劑 2
辛酰/癸酰氨丙基甜菜鹼
CAPRYL/CAPRAMIDOPROPYL BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,清潔劑,表面活性劑,黏度控制 1-3
椰油酰谷氨酸二鈉
DISODIUM COCOYL GLUTAMATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
椰油酰谷氨酸鈉
SODIUM COCOYL GLUTAMATE@!@SODIUM COCOYL GLUTAMINATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
椰油酰甘氨酸鉀
POTASSIUM COCOYL GLYCINATE
頭髮調理,增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
燕麥(AVENA SATIVA)仁提取物
AVENA SATIVA (OAT) KERNEL EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,摩擦劑,柔潤劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
1,2-丁二醇
1,2-BUTANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
榆綉線菊(SPIRAEA ULMARIA)花提取物
SPIRAEA ULMARIA FLOWER EXTRACT
祛痘,皮膚調理,控油 1
草棉(GOSSYPIUM HERBACEUM)提取物
GOSSYPIUM HERBACEUM (COTTON) EXTRACT
皮膚調理,柔潤劑 1
羥基積雪草甙
MADECASSOSIDE
皮膚調理,保濕,抗氧化 1
積雪草苷
ASIATICOSIDE
抗衰,祛痘,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
羥基積雪草酸
MADECASSIC ACID
祛痘,皮膚調理,抗氧化 1
積雪草酸
ASIATIC ACID
祛痘,皮膚調理,抗氧化 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
氫化卵磷脂
HYDROGENATED LECITHIN
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕,表面活性劑,乳化劑 1-2
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
丙烯酰二甲基牛磺酸銨/VP 共聚物
AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER
增稠劑,黏度控制 1
海茴香(CRITHMUM MARITIMUM)提取物
CRITHMUM MARITIMUM EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
麥芽糊精
MALTODEXTRIN
皮膚調理,頭髮調理,吸附劑,成膜劑,粘合劑,乳化穩定劑 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
山梨酸鉀
POTASSIUM SORBATE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 2
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去黑頭,去角質,保濕,螯合劑,pH調節劑 1-2

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。