AMBER·ZHAO晶雕復源清紋面膜
品牌:AMBERZHAO
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
杏(PRUNUS ARMENIACA)仁提取物
PRUNUS ARMENIACA (APRICOT) KERNEL EXTRACT@!@KYOUNIN EKISU
皮膚調理,抗氧化 1
二肽二氨基丁酰苄基酰胺二乙酸鹽
DIPEPTIDE DIAMINOBUTYROYL BENZYLAMIDE DIACETATE
抗衰,皮膚調理 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,增溶劑,溶劑 1
肌肽
CARNOSINE
抗糖化,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
糖蛋白
GLYCOPROTEINS
皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
海藻糖
TREHALOSE
皮膚調理,保濕,柔潤劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑 1
岩藻糖
FUCOSE
皮膚調理,表面活性劑 1
生物糖 膠-1
BIOSACCHARIDE GUM-1
皮膚調理,保濕 1
生育酚(維生素E)
TOCOPHEROL
修護,抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 致痘風險等級(低) 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
卵磷脂
LECITHIN
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1-2
紅沒藥醇
BISABOLOL
修護,去黑頭,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,保濕 1-2
霍霍巴酯類
JOJOBA ESTERS
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕 1
角鯊烷
SQUALANE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑,賦脂劑 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
(動物)胎盤蛋白
PLACENTAL PROTEIN
保濕,抗氧化 5
甘草類黃酮
KANZOU FURABONOIDO
皮膚調理,抗氧化
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
聚谷氨酸
POLYGLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。