瑞梵卡奢宠水光美颜面膜
品牌:瑞梵卡
企业:广州和陆生物科技有限公司
分类:其他面膜
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
溶剂 1
甘油
GLYCERIN
保湿 1-2
甜菜碱
BETAINE
保湿 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保湿 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
保湿 3
高山火绒草(LEONTOPODIUM ALPINUM)愈伤组织提取物
LEONTOPODIUM ALPINUM CALLUS CULTURE EXTRACT
抗衰,皮肤保护,皮肤调理,抗氧化,头发调理,保湿
3-邻-乙基抗坏血酸
3-o-ETHYL ASCORBIC ACID
皮肤调理,抗氧化,保湿 1
透明质酸
HYALURONIC ACID
抗衰,修护,保湿 1
卡波姆
CARBOMER
增稠剂 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
pH调节剂 致痘风险等级(低) 6
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保湿 1
龙胆(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
保湿,舒缓,皮肤调理 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮肤调理,保湿 2
乳酸钠
SODIUM LACTATE
去角质,保湿,pH调节剂 1-3
辛酰羟肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合剂 1
丝氨酸
SERINE
头发调理,保湿,抗静电 1
甘氨酸
GLYCINE
抗衰,皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电 1
丙氨酸
ALANINE
抗氧化,抗衰,头发调理,保湿,抗静电 1
缬氨酸
VALINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
异亮氨酸
ISOLEUCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电,润肤剂 1
亮氨酸
LEUCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
精氨酸
ARGININE
保湿,润肤剂,pH调节剂 1
脯氨酸
PROLINE
皮肤调理,头发调理 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电 1
苏氨酸
THREONINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
赖氨酸
LYSINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
麦角硫因
ERGOTHIONEINE
舒缓,抗衰,抗氧化 1
柠檬酸钾
POTASSIUM CITRATE
螯合剂,pH调节剂 1
透明质酸钠
SODIUM HYALURONATE
修护,抗衰,舒缓,保湿 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电 1

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。