御方風雲養膚膜成分表和安全分析 | 粤G妆网备字2023026128

御方風雲養膚膜

品牌：御方
企業：廣州市茗妍化妝品有限公司
分類：其他面膜

成分	概略特性	風險	安心度
水 WATER@!@AQUA	溶劑		1
丙二醇 PROPYLENE GLYCOL	保濕		3
甜菜鹼 BETAINE	保濕		1
北美金縷梅(HAMAMELIS VIRGINIANA)水 HAMAMELIS VIRGINIANA (WITCH HAZEL) WATER	保濕,祛痘,舒緩,收斂,抗氧化		1
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	保濕		1
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	保濕		1
對羥基苯乙酮 HYDROXYACETOPHENONE	抗氧化		1
羥乙基纖維素 HYDROXYETHYLCELLULOSE	增稠劑		1
卡波姆 CARBOMER	增稠劑		1
三乙醇胺 TRIETHANOLAMINE	pH調節劑	致痘風險等級（低）	6
蜂蜜提取物 HONEY EXTRACT	皮膚調理,保濕		1
β-葡聚糖 BETA-GLUCAN	修護,舒緩,保濕		1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物 CENTELLA ASIATICA EXTRACT	抗皺,修護,舒緩,抗氧化,保濕		1
PEG-40 氫化蓖麻油 PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL	乳化劑	含PEG的成分	1-3
油醇聚醚-20 OLETH-20	清潔劑,表面活性劑,乳化劑		1-3
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物 POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT	抗衰,抗氧化		1
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物 SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT	抗衰,舒緩,抗氧化		1
(日用)香精 FRAGRANCE	吸附劑,香精香料	香精香料
聚乙二醇-8 PEG-8	保濕	含PEG的成分	1-3
薄荷腦 MENTHOLUM	清涼劑
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物 GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT	抗氧化,舒緩		5
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物 CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT	抗衰,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕		2-4
羥苯甲酯 METHYLPARABEN	防腐劑	、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑	3-4
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)葉提取物 ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT	抗衰,收斂,抗氧化		1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物 CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT	抗衰,舒緩,抗氧化		2
CI 19140 CI 19140@!@KI4	著色劑	色素	4-6
聚山梨醇酯-60 POLYSORBATE 60	乳化劑		1-3
磷酸氫二鈉 DISODIUM PHOSPHATE	pH調節劑		1
CI 42090 CI 42090@!@AO1@!@AO205	著色劑	色素	3-8
磷酸二氫鈉 SODIUM PHOSPHATE	pH調節劑		1

溫馨提示：
1、綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。