御泥坊靈芝露修護精華睡眠面膜
品牌:御泥坊
企業:湖南御家化妝品製造有限公司
分類:免洗睡眠面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
尿囊素
ALLANTOIN
舒緩,保濕 1
氫化卵磷脂
HYDROGENATED LECITHIN
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕,乳化劑 1-2
紅沒藥醇
BISABOLOL
修護,去黑頭,舒緩,頭髮調理,保濕 1-2
精氨酸
ARGININE
保濕,潤膚劑,pH調節劑 1
卡波姆
CARBOMER
增稠劑 1
丙烯酸羥乙酯/丙烯酰二甲基牛磺酸鈉共聚物
HYDROXYETHYL ACRYLATE/SODIUM ACRYLOYLDIMETHYL TAURATE COPOLYMER
增稠劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
修護,舒緩,皮膚保護,抗氧化,保濕 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
膽甾醇異硬脂酸酯
CHOLESTERYL ISOSTEARATE
皮膚調理,潤膚劑,黏度控制 1
WATER@!@AQUA
溶劑 1
C12-20 烷基葡糖苷
C12-20 ALKYL GLUCOSIDE
增稠劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 2
C14-22 醇
C14-22 ALCOHOLS
乳化穩定劑 1
角鯊烷
SQUALANE
保濕,潤膚劑 1
牛油果樹(BUTYROSPERMUM PARKII)果脂
BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER
抗衰,舒緩,皮膚調理,保濕,潤膚劑 1
山嵛醇
BEHENYL ALCOHOL
皮膚調理,增稠劑,潤膚劑,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
異壬酸異壬酯
ISONONYL ISONONANOATE
皮膚調理,抗靜電,潤膚劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
黑靈芝(GANODERMA ATRUM)提取物
GANODERMA ATRUM (MUSHROOM) EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
甘油聚醚-26
GLYCERETH-26
保濕 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑 1
乙酰化透明質酸鈉
SODIUM ACETYLATED HYALURONATE
修護,保濕 1
水解透明質酸鈉
HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE
修護,保濕 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
修護,抗衰,舒緩,保濕 1
羥癸基泛醌
HYDROXYDECYL UBIQUINONE
皮膚調理,抗氧化 1
姜(ZINGIBER OFFICINALE)根提取物
ZINGIBER OFFICINALE (GINGER) ROOT EXTRACT
舒緩,抗衰,抗氧化 1
神經酰胺 EOP
Ceramide EOP
修護,抗氧化,保濕 1
黃原膠
XANTHAN GUM
增稠劑 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕 2
膽甾醇
CHOLESTEROL
抗衰,皮膚調理,潤膚劑 1
植物鞘氨醇
PHYTOSPHINGOSINE
抗衰,舒緩,保濕,潤膚劑 1
神經酰胺 AP
CERAMIDE AP
修護,抗衰,保濕 1
神經酰胺 NP
Ceramide NP
修護,抗衰,抗氧化,保濕 1
月桂酰乳酰乳酸鈉
SODIUM LAUROYL LACTYLATE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。