HOUNOYOU 清潤保濕面膜
品牌:清潤
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
水解小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)膠
HYDROLYZED SCLEROTIUM GUM
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,成膜劑
聚丙烯酸鈉
SODIUM POLYACRYLATE
皮膚調理,頭髮調理,發用定型,吸附劑,增稠劑,成膜劑,柔潤劑,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 2
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
聚谷氨酸鈉
SODIUM POLYGLUTAMATE
皮膚調理,頭髮調理,保濕 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
生物糖 膠-1
BIOSACCHARIDE GUM-1
皮膚調理,保濕 1
馬齒莧(PORTULACA OLERACEA)提取物
PORTULACA OLERACEA EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
蜂(APIS MELLIFERA)蜜
HONEY
皮膚調理,保濕,頭髮調理,增稠劑,柔潤劑 1
糖蜜
MOLASSES
皮膚調理 1
稻(ORYZA SATIVA)糟提取物
ORYZA SATIVA (RICE) LEES EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
乳糖
LACTOSE
皮膚調理,保濕 1
牛奶蛋白
MILK PROTEIN
皮膚調理,頭髮調理 1
二裂酵母發酵產物溶胞產物
BIFIDA FERMENT LYSATE
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
香橙(CITRUS JUNOS)果提取物
CITRUS JUNOS FRUIT EXTRACT
皮膚調理,舒敏 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
酪氨酸
TYROSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
苯丙氨酸
PHENYLALANINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
蘇氨酸
THREONINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑 1
組氨酸
HISTIDINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。