赫敏娜煥顏修護噴霧成分表和安全分析 | 粤G妆网备字2020197596

赫敏娜煥顏修護噴霧

品牌：赫敏娜
企業：廣州優鉑優匠生物科技有限公司
分類：爽膚噴霧

成分	概略特性	安心度
水 WATER@!@AQUA	皮膚調理,溶劑	1
甘油 GLYCERIN	皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制	1-2
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制	1
酵母菌發酵產物濾液 SACCHAROMYCES FERMENT FILTRATE	抗衰,皮膚調理,保濕,抗氧化	1
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物 GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT	皮膚調理,氣味抑製劑	1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物 CENTELLA ASIATICA EXTRACT	修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑	1
艾(ARTEMISIA ARGYI)葉提取物 ARTEMISIA ARGYI LEAF EXTRACT	舒敏,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物 GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT	舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑	5
梔子(GARDENIA FLORIDA)提取物 GARDENIA FLORIDA EXTRACT	皮膚調理	1
牡丹(PAEONIA SUFFRUTICOSA)根皮提取物 PAEONIA SUFFRUTICOSA ROOT BARK EXTRACT	收斂,抗氧化
細莖石斛(DENDROBIUM CANDIDUM)提取物 DENDROBIUM CANDIDUM EXTRACT	抗衰,皮膚調理,抗氧化,柔潤劑
可溶性膠原 SOLUBLE COLLAGEN	皮膚調理,保濕,頭髮調理,成膜劑,抗靜電	1
糖類同分異構體 SACCHARIDE ISOMERATE	皮膚調理,保濕	1
羧甲基脫乙酰殼多糖 CARBOXYMETHYL CHITOSAN	修護,舒敏,皮膚調理,膠凝劑,成膜劑,黏度控制
甘油磷酸肌醇膽鹼鹽 GLYCEROPHOSPHOINOSITOL CHOLINE	皮膚防護,皮膚調理
己二醇 HEXYLENE GLYCOL	皮膚調理,保濕,清潔劑,溶劑,表面活性劑,乳化劑	1
丙二醇 PROPYLENE GLYCOL	皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制	3
甘油辛酸酯 GLYCERYL CAPRYLATE	皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑	1
辛酰羥肟酸 CAPRYLHYDROXAMIC ACID	螯合劑	1

溫馨提示：
1、綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。