佐美佑上氨基酸潔面膏
品牌:佐美佑上
企業:珠海市華喜生物科技有限公司
分類:潔面膏/霜/泥
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
硬脂酸
STEARIC ACID
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,賦脂劑,乳化劑,乳化穩定劑 致痘風險等級(低) 1
棕櫚酸
PALMITIC ACID
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 1
月桂醇聚醚硫酸酯鈉
SODIUM LAURETH SULFATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 SLS/SLES表面活性劑 1-3
氫氧化鉀
POTASSIUM HYDROXIDE
pH調節劑 2-5
月桂酸
LAURIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(高) 1
肉豆蔻酸
MYRISTIC ACID
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(中) 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
PEG-75 羊毛脂
PEG-75 LANOLIN
皮膚調理,頭髮調理,柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 、含PEG的成分 1-3
羥丙基甲基纖維素
HYDROXYPROPYL METHYLCELLULOSE
增稠劑,成膜劑,抗靜電,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
椰油酰甘氨酸鈉
SODIUM COCOYL GLYCINATE
皮膚調理,頭髮調理,增泡劑,清潔劑,表面活性劑 1
月桂酰谷氨酸鈉
SODIUM LAUROYL GLUTAMATE
頭髮調理,增泡劑,抗靜電,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
粉防己(STEPHANIA TETRANDRA)提取物
STEPHANIA TETRANDRA EXTRACT
舒敏,收斂
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
皮膚調理,氣味抑製劑 1
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
羥苯丙酯
PROPYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 9

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。