玉面清 依克多因修護貼
品牌:玉面清
企業:廣州詩柏芮生物科技有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
酵母菌/大米發酵產物濾液
SACCHAROMYCES/RICE FERMENT FILTRATE
皮膚調理 1
甘油葡糖苷
GLYCERYL GLUCOSIDE
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
聚乙二醇-8
PEG-8
保濕,柔潤劑,溶劑,表面活性劑 含PEG的成分 1-3
聚丙二醇-7
PPG-7
皮膚調理,溶劑 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑 1
蘇氨酸
THREONINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
蛋氨酸
METHIONINE
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
色氨酸
TRYPTOPHAN
抗衰,皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
胱氨酸
CYSTINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
酪氨酸
TYROSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
組氨酸
HISTIDINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
PEG/PPG-17/6 共聚物
PEG/PPG-17/6 COPOLYMER
溶劑,表面活性劑 含PEG的成分 3
四氫甲基嘧啶羧酸
ECTOIN
修護,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
二肽二氨基丁酰苄基酰胺二乙酸鹽
DIPEPTIDE DIAMINOBUTYROYL BENZYLAMIDE DIACETATE
抗衰,皮膚調理 1
羥丙基四氫吡喃三醇
HYDROXYPROPYL TETRAHYDROPYRANTRIOL
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
羥乙基哌嗪乙烷磺酸
HYDROXYETHYLPIPERAZINE ETHANE SULFONIC ACID
皮膚調理,pH調節劑 1
甘草(GLYCYRRHIZA URALENSIS)根提取物
GLYCYRRHIZA URALENSIS (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,抗氧化 4
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
皮膚調理,氣味抑製劑 1
苦參(SOPHORA ANGUSTIFOLIA)根提取物
SOPHORA ANGUSTIFOLIA ROOT EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,柔潤劑 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)根提取物
CENTELLA ASIATICA ROOT EXTRACT
皮膚調理,抗衰,保濕
磷脂
PHOSPHOLIPIDS
皮膚調理,保濕,柔潤劑 1
視黃醇棕櫚酸酯
RETINYL PALMITATE
抗衰,祛痘,皮膚調理,抗氧化 致痘風險等級(低)、孕婦慎用成分 9
生育酚乙酸酯
TOCOPHERYL ACETATE
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 2-3
甲萘醌
MENADIONE
皮膚調理,抗氧化 1
辛酸/癸酸甘油三酯
CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE
修護,皮膚調理,柔潤劑,溶劑 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。