魔顏納晶·小白磁凈透面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
聚乙二醇-400
PEG-400
溶劑,粘合劑,乳化穩定劑 含PEG的成分 3
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕 1
白及(BLETILLA STRIATA)根提取物
BLETILLA STRIATA ROOT EXTRACT
皮膚調理,去黑頭,抗衰 1
海藻糖
TREHALOSE
皮膚調理,保濕,柔潤劑 1
磷酸鈣
CALCIUM PHOSPHATE
口腔護理,填充劑,摩擦劑,黏度控制,pH調節劑 1
人蔘(PANAX GINSENG)提取物
PANAX GINSENG EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,口腔護理 1
神經酰胺 EOP
Ceramide EOP
抗衰,舒敏,皮膚調理,保濕,抗氧化,頭髮調理 1
馬齒莧(PORTULACA OLERACEA)提取物
PORTULACA OLERACEA EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
聚谷氨酸鈉
SODIUM POLYGLUTAMATE
皮膚調理,頭髮調理,保濕 1
水解酪蛋白
HYDROLYZED CASEIN
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,增溶劑,溶劑 1
山梨酸鉀
POTASSIUM SORBATE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 2
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
半胱氨酸
CYSTEINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
谷胱甘肽
GLUTATHIONE
抗衰,皮膚調理,抗氧化,還原劑 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。