高詩蒂納二裂酵母煥亮精華面膜
品牌:高詩蒂納
企業:廣州皓悅化妝品有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
海藻糖
TREHALOSE
皮膚調理,保濕,柔潤劑 1
產鹼桿菌多糖類
ALCALIGENES POLYSACCHARIDES
抗衰,皮膚調理,保濕,增稠劑,柔潤劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
甘油辛酸酯
GLYCERYL CAPRYLATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
羥乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
PPG-1-PEG-9 月桂二醇醚
PPG-1-PEG-9 LAURYL GLYCOL ETHER
增溶劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 3
椰油醇聚醚-7
COCETH-7
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1
PEG-40 氫化蓖麻油
PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 1-3
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
庫拉索蘆薈(ALOE BARBADENSIS)葉汁
ALOE BARBADENSIS LEAF JUICE
抗衰,皮膚調理,保濕,抗氧化 1-3
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
紫花地丁(VIOLA YEDOENSIS)提取物
VIOLA YEDOENSIS EXTRACT
皮膚調理
歐蒲公英(TARAXACUM OFFICINALE)根莖/根提取物
TARAXACUM OFFICINALE (DANDELION) RHIZOME/ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理 1
歐錦葵(MALVA SYLVESTRIS)花提取物
MALVA SYLVESTRIS (MALLOW) FLOWER EXTRACT
皮膚調理 1
芍藥(PAEONIA ALBIFLORA)根提取物
PAEONIA ALBIFLORA ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
忍冬(LONICERA JAPONICA)花提取物
LONICERA JAPONICA (HONEYSUCKLE) FLOWER EXTRACT
皮膚調理,抗氧化
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附劑,香精香料 香精香料
酵母菌/大米發酵產物濾液
SACCHAROMYCES/RICE FERMENT FILTRATE
皮膚調理 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
二裂酵母發酵產物溶胞產物
BIFIDA FERMENT LYSATE
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
氨丁三醇
TROMETHAMINE
pH調節劑 1-2

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。