雅邦氨基酸清新定妝噴霧201
品牌:雅邦
分類:定妝噴霧
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
乙醇
ALCOHOL
收斂,消泡劑,溶劑,黏度控制 酒精 1
1,3-丙二醇
PROPANEDIOL
保濕,增稠劑,溶劑,黏度控制 2
丙烯酸(酯)類/甲基丙烯酸烯丙酯共聚物 AMP 鹽
AMP-ACRYLATES/ALLYL METHACRYLATE COPOLYMER
發用定型,成膜劑 1-2
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
北美金縷梅(HAMAMELIS VIRGINIANA)水
HAMAMELIS VIRGINIANA (WITCH HAZEL) WATER
祛痘,舒敏,皮膚調理,收斂,抗氧化,頭髮調理 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收斂,抗氧化,保濕 1
脹果甘草(GLYCYRRHIZA INFLATA)根提取物
GLYCYRRHIZA INFLATA ROOT EXTRACT
皮膚調理 1
苦參(SOPHORA FLAVESCENS)根提取物
SOPHORA FLAVESCENS ROOT EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,柔潤劑
積雪草(CENTELLA ASIATICA)花/葉/莖提取物
CENTELLA ASIATICA FLOWER/LEAF/STEM EXTRACT
抗衰,皮膚調理,保濕
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
PCA 鈉
SODIUM PCA
皮膚調理,控油,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
山梨(糖)醇
SORBITOL
皮膚調理,保濕 1
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
寡肽-1
OLIGOPEPTIDE-1
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
蘇氨酸
THREONINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
羥苯丙酯
PROPYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 9

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。