珂施儷研光採精華面膜
品牌:珂施儷研
企業:蘇州瑞雪化妝品有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
玫瑰(ROSA RUGOSA)花水
ROSA RUGOSA FLOWER WATER
抗衰,抗氧化
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
甲基丙二醇
METHYLPROPANEDIOL
溶劑 1
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
鞣花酸
ELLAGIC ACID
皮膚調理,抗氧化 1
麥芽寡糖葡糖苷
MALTOOLIGOSYL GLUCOSIDE
皮膚調理,成膜劑,粘合劑 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
氫化澱粉水解物
HYDROGENATED STARCH HYDROLYSATE
皮膚調理,保濕 1
羥乙基纖維素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
增稠劑 1
精氨酸
ARGININE
保濕,潤膚劑,pH調節劑 1
尿囊素
ALLANTOIN
舒緩,保濕 1
黃原膠
XANTHAN GUM
增稠劑 1
芍藥(PAEONIA ALBIFLORA)根提取物
PAEONIA ALBIFLORA ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
二裂酵母發酵產物溶胞產物
BIFIDA FERMENT LYSATE
緊緻,皮膚調理,抗氧化,保濕 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕 2
燕窩提取物
CUBILOSE EXTRACT
皮膚調理,抗氧化
乳酸桿菌發酵溶胞產物
LACTOBACILLUS FERMENT LYSATE
皮膚調理,抗氧化 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。