新暨膚氨基酸凈潤潔面乳
品牌:新暨膚
企業:廣州天吻生物科技有限公司
分類:潔面乳
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
月桂醇磺基琥珀酸酯二鈉
DISODIUM LAURYL SULFOSUCCINATE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
椰油酰甘氨酸鈉
SODIUM COCOYL GLYCINATE
清潔劑,乳化劑,表面活性劑 1
甘油硬脂酸酯
GLYCERYL STEARATE
乳化劑 致痘風險等級(低)
乙二醇二硬脂酸酯
GLYCOL DISTEARATE
不透明劑 1
椰油酰胺丙基甜菜鹼
COCAMIDOPROPYL BETAINE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1-5
檸檬酸
CITRIC ACID
去角質,pH調節劑 1-2
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
氯化鈉
SODIUM CHLORIDE
皮膚調理,口腔護理,乳化穩定劑 1
香精
PARFUM@!@AROMA
香精香料 香精香料
羥乙基纖維素
HYDROXYETHYLCELLULOSE
增稠劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
乳酸鈉
SODIUM LACTATE
去角質,保濕,pH調節劑 1-3
絲氨酸
SERINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
纈氨酸
VALINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,潤膚劑 1
亮氨酸
LEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
精氨酸
ARGININE
保濕,潤膚劑,pH調節劑 1
蘇氨酸
THREONINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
檸檬酸鉀
POTASSIUM CITRATE
螯合劑,pH調節劑 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。