芍瑤殿 艾養 亮膚護理套 高蓄能水凈面膜
品牌:芍瑤殿
企業:廣州玖馬生物科技有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
甘油聚甲基丙烯酸酯
GLYCERYL POLYMETHACRYLATE
保濕,增稠劑,成膜劑,黏度控制 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
PVM/MA 共聚物
PVM/MA COPOLYMER
發用定型,增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
羥乙基脲
HYDROXYETHYL UREA
皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
丙烯酰二甲基牛磺酸銨/VP 共聚物
AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER
增稠劑,黏度控制 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
聚二甲基硅氧烷交聯聚合物
DIMETHICONE CROSSPOLYMER
發用定型,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 硅油 1
霍霍巴蠟 PEG-120 酯類
JOJOBA WAX PEG-120 ESTERS
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 3
甘油聚醚-26
GLYCERETH-26
保濕,表面活性劑,黏度控制 1
β-葡聚糖
BETA-GLUCAN
修護,舒敏,皮膚調理,保濕 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
歐錦葵(MALVA SYLVESTRIS)花提取物
MALVA SYLVESTRIS (MALLOW) FLOWER EXTRACT
皮膚調理 1
芍藥(PAEONIA LACTIFLORA)根提取物
PAEONIA LACTIFLORA ROOT EXTRACT@!@SHAKUYAKU EKISU
皮膚調理,抗氧化 1
忍冬(LONICERA JAPONICA)花提取物
LONICERA JAPONICA (HONEYSUCKLE) FLOWER EXTRACT
皮膚調理,抗氧化
歐蒲公英(TARAXACUM OFFICINALE)根莖/根提取物
TARAXACUM OFFICINALE (DANDELION) RHIZOME/ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理 1
紫花地丁(VIOLA YEDOENSIS)提取物
VIOLA YEDOENSIS EXTRACT
皮膚調理
冰片
BORNEOL
皮膚調理,抗氧化,吸附劑,香精香料 香精香料 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
PEG-50 氫化蓖麻油
PEG-50 HYDROGENATED CASTOR OIL
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。