天蘊氨基酸修護面膜
品牌:天蘊
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
雙丙甘醇
DIPROPYLENE GLYCOL
保濕,溶劑,黏度控制 1-2
1,3-丙二醇
PROPANEDIOL
保濕,增稠劑,溶劑,黏度控制 2
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,去角質,保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
氫氧化鉀
POTASSIUM HYDROXIDE
pH調節劑 2-5
羥苯基丙酰胺苯甲酸
HYDROXYPHENYL PROPAMIDOBENZOIC ACID
皮膚調理 1
賴氨酸
LYSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電 1
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
酪氨酸
TYROSINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
蛋氨酸
METHIONINE
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
精氨酸
ARGININE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑 1
半胱氨酸
CYSTEINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
胱氨酸
CYSTINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
扁滸苔(ENTEROMORPHA COMPRESSA)提取物
ENTEROMORPHA COMPRESSA EXTRACT
皮膚防護 1
羧甲基脫乙酰殼多糖
CARBOXYMETHYL CHITOSAN
修護,舒敏,皮膚調理,膠凝劑,成膜劑,黏度控制
葉酸
FOLIC ACID
皮膚調理,柔潤劑 1
水飛薊(SILYBUM MARIANUM)果提取物
SILYBUM MARIANUM FRUIT EXTRACT
皮膚調理,收斂,抗氧化 1
聖羅勒(OCIMUM SANCTUM)葉提取物
OCIMUM SANCTUM LEAF EXTRACT
皮膚調理 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去黑頭,去角質,保濕,螯合劑,pH調節劑 1-2
季銨鹽-73
QUATERNIUM-73
抗靜電 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。