潤芳華人蔘怡養噴霧
品牌:潤芳華
分類:爽膚噴霧
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
赤蘚醇
ERYTHRITOL
皮膚調理,保濕 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
甲基丙二醇
METHYLPROPANEDIOL
溶劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
甘氨酸
GLYCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電 1
丙氨酸
ALANINE
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
人蔘(PANAX GINSENG)根提取物
PANAX GINSENG ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,柔潤劑 1
脯氨酸
PROLINE
皮膚調理,頭髮調理 1
異亮氨酸
ISOLEUCINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
紅藻門藻(RHODOPHYTA)提取物
KOUSOU EKISU
PEG-40 氫化蓖麻油
PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 1-3
焦糖色
CARAMEL
著色劑 色素 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
香精
PARFUM@!@AROMA
吸附劑,香精香料 香精香料
粉防己(STEPHANIA TETRANDRA)提取物
STEPHANIA TETRANDRA EXTRACT
舒敏,收斂
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電 1
龍膽(GENTIANA SCABRA)提取物
GENTIANA SCABRA EXTRACT
皮膚調理,保濕

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。