HEFQ赫菲泉草本凈顏祛痘霜
品牌:赫菲
分類:普通面霜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
肉豆蔻酸異丙酯
ISOPROPYL MYRISTATE
皮膚調理,頭髮調理,柔潤劑,粘合劑,乳化劑 致痘風險等級(中) 1
鯨蠟硬脂醇
CETEARYL ALCOHOL
皮膚調理,增稠劑,柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,黏度控制,不透明劑,乳化劑,乳化穩定劑 致痘風險等級(低) 1
環糊精
CYCLODEXTRIN
吸附劑,螯合劑 1
甘油硬脂酸酯
GLYCERYL STEARATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(低)
硬脂醇聚醚-21
STEARETH-21
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1-3
月桂氮卓酮
LAUROCAPRAM
皮膚調理,皮膚滲透劑
硬脂醇聚醚-2
STEARETH-2
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 1-3
角鯊烷
SQUALANE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑,賦脂劑 1
聚二甲基硅氧烷
DIMETHICONE
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,成膜劑,柔潤劑,消泡劑 硅油 1-3
樟腦
CAMPHOR
變性劑,增塑劑,氣味抑製劑,清涼劑 孕婦慎用成分 1-2
薄荷腦
MENTHOLUM
清涼劑
鯨蠟硬脂基葡糖苷
CETEARYL GLUCOSIDE
增溶劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 2
甘油辛酸酯
GLYCERYL CAPRYLATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
丹皮酚
PAEONOL
皮膚調理,抗氧化,去屑
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
五倍子(GALLA RHOIS)提取物
GALLA RHOIS GALLNUT EXTRACT
抗氧化
藥用大黃(RHEUM OFFICINALE)提取物
RHEUM OFFICINALE EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化
羥苯丙酯
PROPYLPARABEN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 9
黃檗(PHELLODENDRON AMURENSE)樹皮提取物
OUBAKU EKISU@!@PHELLODENDRON AMURENSE BARK EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
食用香精(料)
FLAVOR
吸附劑,香精香料 香精香料
葡萄糖
GLUCOSE
皮膚調理,保濕 1
卡瓦胡椒(PIPER METHYSTICUM)根提取物
PIPER METHYSTICUM ROOT EXTRACT
皮膚調理
牡丹(PAEONIA SUFFRUTICOSA)根皮提取物
PAEONIA SUFFRUTICOSA ROOT BARK EXTRACT
收斂,抗氧化
燕麥(AVENA SATIVA)β-葡聚糖
OAT BETA GLUCAN
抗衰,抗氧化 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。