赫敏娜舒護安撫精華液
品牌:赫敏娜
企業:廣州優鉑優匠生物科技有限公司
分類:精華液
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
丙二醇
PROPYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 3
艾(ARTEMISIA ARGYI)葉提取物
ARTEMISIA ARGYI LEAF EXTRACT
舒敏,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
皮膚調理,氣味抑製劑 1
酵母菌發酵產物濾液
SACCHAROMYCES FERMENT FILTRATE
抗衰,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
牡丹(PAEONIA SUFFRUTICOSA)根皮提取物
PAEONIA SUFFRUTICOSA ROOT BARK EXTRACT
收斂,抗氧化
梔子(GARDENIA FLORIDA)提取物
GARDENIA FLORIDA EXTRACT
皮膚調理 1
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
植物甾醇類
PHYTOSTEROLS
皮膚調理,柔潤劑 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
視黃醇
RETINOL
修護,抗衰,祛痘,皮膚調理,抗氧化 孕婦慎用成分 9
生育酚(維生素E)
TOCOPHEROL
修護,抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 致痘風險等級(低) 1
水解膠原
HYDROLYZED COLLAGEN
抗衰,皮膚調理,保濕,頭髮調理,成膜劑,抗靜電,柔潤劑 1
椰子(COCOS NUCIFERA)油
COCOS NUCIFERA (COCONUT) OIL
皮膚調理,頭髮調理,柔潤劑 致痘風險等級(高) 1
甘草(GLYCYRRHIZA URALENSIS)根提取物
GLYCYRRHIZA URALENSIS (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,抗氧化 4
蘆薈提取物
ALOE YOHJYU MATSU EKISU
皮膚調理,抗氧化,保濕 1-2
β-葡聚糖
BETA-GLUCAN
修護,舒敏,皮膚調理,保濕 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑 1
乳酸
LACTIC ACID
祛痘,皮膚調理,保濕,pH調節劑 1-4
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
生物糖 膠-1
BIOSACCHARIDE GUM-1
皮膚調理,保濕 1
七肽-6
HEPTAPEPTIDE-6
抗衰,皮膚調理
聚二甲基硅氧烷醇
DIMETHICONOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,增稠劑,柔潤劑,消泡劑 硅油 1
聚山梨醇酯-20
POLYSORBATE 20
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 3
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
甘油辛酸酯
GLYCERYL CAPRYLATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
己二醇
HEXYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,清潔劑,溶劑,表面活性劑,乳化劑 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。