艾生堂 壳聚糖舒缓补水面膜
品牌:艾生堂
企业:广州市姿妍堂化妆品有限公司
分类:其他面膜
成分 概略特性 活性 风险 安心度
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
1,3-丙二醇
PROPANEDIOL
保湿,增稠剂,溶剂,黏度控制 2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
金黄洋甘菊(CHRYSANTHELLUM INDICUM)提取物
CHRYSANTHELLUM INDICUM EXTRACT
舒敏,皮肤调理,抗氧化
甜菜碱
BETAINE
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电,表面活性剂,黏度控制 1
海藻糖
TREHALOSE
皮肤调理,保湿,柔润剂 1
银耳(TREMELLA FUCIFORMIS)提取物
TREMELLA FUCIFORMIS (MUSHROOM) EXTRACT
皮肤调理,抗氧化,保湿 1
霍霍巴油 PEG-150 酯类
JOJOBA OIL PEG-150 ESTERS
皮肤调理,头发调理,柔润剂,清洁剂,表面活性剂,乳化剂 含PEG的成分 3
小核菌(SCLEROTIUM ROLFSSII)胶
SCLEROTIUM GUM
皮肤调理,成膜剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
聚丙烯酸酯交联聚合物-6
POLYACRYLATE CROSSPOLYMER-6
增稠剂,成膜剂,黏度控制,乳化稳定剂 1
EDTA 二钠
DISODIUM EDTA
螯合剂,黏度控制 1
生物糖 胶-1
BIOSACCHARIDE GUM-1
皮肤调理,保湿 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮肤调理,保湿,溶剂 1
辛酰羟肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合剂 1
赖氨酸
LYSINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
组氨酸
HISTIDINE
皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电 1
精氨酸
ARGININE
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电,pH调节剂 1
天冬氨酸
ASPARTIC ACID
抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电 1
苏氨酸
THREONINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
丝氨酸
SERINE
皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电 1
谷氨酸
GLUTAMIC ACID
皮肤调理,保湿,头发调理,抗静电 1
脯氨酸
PROLINE
皮肤调理,头发调理 1
甘氨酸
GLYCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
丙氨酸
ALANINE
皮肤调理,抗氧化,头发调理,抗静电 1
缬氨酸
VALINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
异亮氨酸
ISOLEUCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电,柔润剂 1
亮氨酸
LEUCINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
酪氨酸
TYROSINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1
苯丙氨酸
PHENYLALANINE
皮肤调理,头发调理,抗静电 1

温馨提示:
1、 绿色表示安全。橙色表示较安全。红色表示潜在风险成分。灰色表示暂无数据。
2、安全风险从0-10,数字越高代表风险越大,主要针对长期使用之安全性进行评估。
3、致痘风险等级分为【低-中-高】,如没有标记,则代表此成分无致痘风险。