萃工厂光感美肌防护喷雾
brand:萃工厂
enterprise:杭州康又美科技有限公司
classification:其他妆前/隔离产品
component General characteristics activity risk Safety
BUTANE
丁烷
推进剂 3-6
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
PROPANE
丙烷
推进剂 3
PROPYLENE GLYCOL
丙二醇
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 3
DIMETHICONE
聚二甲基硅氧烷
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,成膜剂,柔润剂,消泡剂 硅油 1-3
CETYL ETHYLHEXANOATE
鲸蜡醇乙基己酸酯
皮肤调理,增稠剂,柔润剂 1
CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE
辛酸/癸酸甘油三酯
修护,皮肤调理,柔润剂,溶剂 1
GLYCERIN
甘油
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制 1-2
MINERAL OIL
矿油
皮肤调理,头发调理,保湿,抗静电,柔润剂,溶剂,赋脂剂 矿物油 1-3
ISODODECANE
异十二烷
皮肤调理,柔润剂,溶剂 1
TITANIUM DIOXIDE
二氧化钛
不透明剂 1-6
PERFLUOROOCTYL TRIETHOXYSILANE
全氟辛基三乙氧基硅烷
成膜剂,粘合剂 4
ALUMINA
氧化铝
吸附剂,填充剂,增稠剂,抗结块剂,摩擦剂,黏度控制,不透明剂 2
TRIETHOXYCAPRYLYLSILANE
三乙氧基辛基硅烷
粘合剂 1
POLYGLYCERYL-10 MYRISTATE
聚甘油-10 肉豆蔻酸酯
皮肤调理,柔润剂,表面活性剂,乳化剂 1
POLYGLYCERYL-3 DIISOSTEARATE
聚甘油-3 二异硬脂酸酯
表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(高) 1
FRAGRANCE
(日用)香精
吸附剂,香精香料 香精香料
NIACINAMIDE
烟酰胺
抗糖化,抗衰,皮肤调理,抗氧化,头发调理,去角质,保湿 1
PHENOXYETHANOL
苯氧乙醇
防腐剂 一般防腐剂 2-4
BLETILLA STRIATA ROOT EXTRACT
白及(BLETILLA STRIATA)根提取物
皮肤调理,去黑头,抗衰 1
ETHYLHEXYLGLYCERIN
乙基己基甘油
皮肤调理,保湿,柔润剂,气味抑制剂 2
ATRACTYLODES MACROCEPHALA EXTRACT
白术(ATRACTYLODES MACROCEPHALA)提取物
皮肤调理
LAVANDULA ANGUSTIFOLIA (LAVENDER) EXTRACT
薰衣草(LAVANDULA ANGUSTIFOLIA)提取物
皮肤调理,抗氧化,气味抑制剂 1
MORUS NIGRA FRUIT EXTRACT
黑桑(MORUS NIGRA)果提取物
皮肤调理,抗氧化 1
RIBES NIGRUM (BLACK CURRANT) FRUIT EXTRACT
黑茶镳子(RIBES NIGRUM)果提取物
皮肤调理,收敛,柔润剂 1
METHYLPARABEN
羟苯甲酯
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂 3-4
PROPYLPARABEN
羟苯丙酯
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂 9
XANTHAN GUM
黄原胶
皮肤调理,胶凝剂,增稠剂,清洁剂,粘合剂,表面活性剂,黏度控制,乳化剂,乳化稳定剂 1
SODIUM HYALURONATE
透明质酸钠
抗衰,皮肤调理,保湿 1
2-o-ETHYL ASCORBIC ACID
2-邻-乙基抗坏血酸
皮肤调理,抗氧化 1
ARBUTIN
熊果苷
皮肤调理,抗氧化,抗衰 1
DISODIUM EDTA
EDTA 二钠
螯合剂,黏度控制 1

Warm Tips:
1、 Green indicates safety.Orange indicates safety.Red indicates potential risk components.Gray indicates that there is currently no data available.
2、The security risk ranges from 0 to 10, and the higher the number, the greater the risk. It is mainly evaluated for the safety of long-term use.
3、The risk level of acne is divided into low medium high. If not marked, it means that this ingredient has no risk of acne.