SAMPAR Clear Solution Mask
brand:欣蔓
classification:其他面膜
component General characteristics activity risk Safety
WATER@!@AQUA
皮肤调理,溶剂 1
KAOLIN
高岭土
吸附剂,填充剂,抗结块剂,摩擦剂,不透明剂 1
PRUNUS AMYGDALUS DULCIS (SWEET ALMOND) OIL
甜扁桃(PRUNUS AMYGDALUS DULCIS)油
皮肤调理 致痘风险等级(高) 1
CETEARYL ALCOHOL
鲸蜡硬脂醇
皮肤调理,增稠剂,柔润剂,清洁剂,表面活性剂,黏度控制,不透明剂,乳化剂,乳化稳定剂 致痘风险等级(低) 1
GLYCERYL STEARATE
甘油硬脂酸酯
皮肤调理,柔润剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(低)
CETEARETH-20
鲸蜡硬脂醇聚醚-20
清洁剂,表面活性剂,乳化剂 致痘风险等级(低) 1-3
PHENOXYETHANOL
苯氧乙醇
防腐剂 一般防腐剂 2-4
ZINC PCA
PCA 锌
皮肤调理,保湿,控油 1-3
ARGON
抗氧化
PELARGONIUM GRAVEOLENS OIL
香叶天竺葵(PELARGONIUM GRAVEOLENS)油
抗氧化 4
BUTYLENE GLYCOL
丁二醇
皮肤调理,保湿,溶剂,黏度控制 1
SODIUM CITRATE
柠檬酸钠
螯合剂,pH调节剂 1
CHLORPHENESIN
氯苯甘醚
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 3
CAMPHOR
樟脑
变性剂,增塑剂,气味抑制剂,清凉剂 孕妇慎用成分 1-2
GERANIOL
香叶醇
吸附剂,香精香料 香精香料 3-5
GLYCERIN
甘油
皮肤防护,皮肤调理,头发调理,口腔护理,保湿,变性剂,溶剂,黏度控制 1-2
LINALOOL
芳樟醇
吸附剂,气味抑制剂,香精香料 香精香料 3
TOCOPHERYL ACETATE
生育酚乙酸酯
抗衰,皮肤调理,抗氧化,保湿 2-3
BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) SEEDCAKE EXTRACT
牛油果树(BUTYROSPERMUM PARKII)籽饼提取物
皮肤防护,皮肤调理
PENTYLENE GLYCOL
1,2-戊二醇
皮肤调理,保湿,增溶剂,溶剂 1
CITRIC ACID
柠檬酸
去黑头,去角质,保湿,螯合剂,pH调节剂 1-2
MENTHA PIPERITA (PEPPERMINT) EXTRACT
辣薄荷(MENTHA PIPERITA)提取物
舒敏,气味抑制剂,清凉剂,清洁剂 4
POTASSIUM SORBATE
山梨酸钾
防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 2
SODIUM BENZOATE
苯甲酸钠
气味抑制剂,稳定剂,防腐剂,不透明剂 一般防腐剂 1-3

Warm Tips:
1、 Green indicates safety.Orange indicates safety.Red indicates potential risk components.Gray indicates that there is currently no data available.
2、The security risk ranges from 0 to 10, and the higher the number, the greater the risk. It is mainly evaluated for the safety of long-term use.
3、The risk level of acne is divided into low medium high. If not marked, it means that this ingredient has no risk of acne.