佑依 潔凈卸妝水(清爽型)
品牌:UE
企業:廣州貴麗商貿有限公司
分類:卸妝水/液
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
雙丙甘醇
DIPROPYLENE GLYCOL
保濕 1-2
PEG-7 甘油椰油酸酯
PEG-7 GLYCERYL COCOATE
潤膚劑,清潔劑,溶劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 1-4
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
硬脂酰胺丙基二甲胺
STEARAMIDOPROPYL DIMETHYLAMINE
頭髮調理,抗靜電,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 2-5
乳酸
LACTIC ACID
祛痘,去角質,保濕,pH調節劑 1-4
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
北美金縷梅(HAMAMELIS VIRGINIANA)葉提取物
HAMAMELIS VIRGINIANA (WITCH HAZEL) LEAF EXTRACT
祛痘,舒緩,皮膚調理,收斂,抗氧化 1
10-羥基癸酸
10-HYDROXYDECANOIC ACID
皮膚調理,潤膚劑 1
癸二酸
SEBACIC ACID
pH調節劑 1
1,10-癸二醇
1,10-DECANEDIOL
溶劑 1
琥珀酰缺端膠原
SUCCINOYL ATELOCOLLAGEN
皮膚調理,潤膚劑
磷酸鉀
POTASSIUM PHOSPHATE
pH調節劑 1
磷酸氫二鈉
DISODIUM PHOSPHATE
pH調節劑 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
保濕 1
水解膠原
HYDROLYZED COLLAGEN
抗衰,皮膚調理,頭髮調理,保濕,成膜劑,抗靜電,潤膚劑 1
可溶性膠原
SOLUBLE COLLAGEN
皮膚調理,頭髮調理,保濕,成膜劑,抗靜電 1
菜薊(CYNARA SCOLYMUS)葉提取物
CYNARA SCOLYMUS (ARTICHOKE) LEAF EXTRACT
抗衰,祛痘,皮膚調理 1
蘋果酸
MALIC ACID
抗衰,皮膚調理,抗氧化,去角質,pH調節劑 1-4

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。