發生秀滋養修護洗髮乳
品牌:發生秀
企業:廣州羿丞生物科技有限公司
分類:洗髮水/乳/露
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
月桂醇聚醚硫酸酯鈉
SODIUM LAURETH SULFATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 SLS/SLES表面活性劑 1-3
氯化鈉
SODIUM CHLORIDE
皮膚調理,口腔護理,填充劑,增稠劑,穩定劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
椰油酰胺丙基甜菜鹼
COCAMIDOPROPYL BETAINE
頭髮調理,保濕,增泡劑,抗靜電,清潔劑,表面活性劑,黏度控制 1-5
椰油酰胺 MEA
COCAMIDE MEA
清潔劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑 1-4
聚二甲基硅氧烷醇
DIMETHICONOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,增稠劑,柔潤劑,消泡劑 硅油 1
甲基椰油酰基牛磺酸鈉
SODIUM METHYL COCOYL TAURATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
聚季銨鹽-7
POLYQUATERNIUM-7
成膜劑,抗靜電 1-4
吡硫鎓鋅
ZINC PYRITHIONE
控油,去屑,頭髮調理,防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 2-3
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料
瓜兒膠羥丙基三甲基氯化銨
GUAR HYDROXYPROPYLTRIMONIUM CHLORIDE
皮膚調理,頭髮調理,增稠劑,成膜劑,抗靜電,黏度控制 1
卡波姆
CARBOMER
膠凝劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
氨端聚二甲基硅氧烷
AMODIMETHICONE
頭髮調理,抗靜電 硅油 1
山嵛酰胺丙基二甲胺
BEHENAMIDOPROPYL DIMETHYLAMINE
頭髮調理,抗靜電,表面活性劑,乳化劑 1-3
羥乙二磷酸
ETIDRONIC ACID
穩定劑,螯合劑 1-2
聚季銨鹽-10
POLYQUATERNIUM-10
頭髮調理,成膜劑,抗靜電 1
DMDM 乙內酰脲
DMDM HYDANTOIN
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、甲醛釋放體防腐劑 6
苦參(SOPHORA FLAVESCENS)根提取物
SOPHORA FLAVESCENS ROOT EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,柔潤劑
秦艽(GENTIANA MACROPHYLLA)提取物
GENTIANA MACROPHYLLA EXTRACT
龍膽(GENTIANA SCABRA)提取物
GENTIANA SCABRA EXTRACT
皮膚調理,保濕
獐芽菜(SWERTIA BIMACULATA)提取物
SWERTIA BIMACULATA EXTRACT
甲基異噻唑啉酮
METHYLISOTHIAZOLINONE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、MIT/CMIT防腐劑 7
氯化鎂
MAGNESIUM CHLORIDE
黏度控制 1
甲基氯異噻唑啉酮
METHYLCHLOROISOTHIAZOLINONE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、MIT/CMIT防腐劑 5
硝酸鎂
MAGNESIUM NITRATE
皮膚調理,頭髮調理,乳化劑,乳化穩定劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。