佳珂源凈痘爽膚調理露
品牌:佳珂源
企業:上海皙顏化妝品有限公司
分類:護膚水/爽膚水
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
北美金縷梅(HAMAMELIS VIRGINIANA)提取物
HAMAMELIS VIRGINIANA (WITCH HAZEL) EXTRACT
祛痘,舒敏,皮膚調理,收斂,控油,抗氧化 1
金黃洋甘菊(CHRYSANTHELLUM INDICUM)提取物
CHRYSANTHELLUM INDICUM EXTRACT
舒敏,皮膚調理,抗氧化
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
苦參(SOPHORA ANGUSTIFOLIA)根提取物
SOPHORA ANGUSTIFOLIA ROOT EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,柔潤劑 1
白柳(SALIX ALBA)樹皮提取物
SALIX ALBA (WILLOW) BARK EXTRACT
祛痘,舒敏,皮膚調理,收斂,頭髮調理 1
番石榴(PSIDIUM GUAJAVA)果提取物
PSIDIUM GUAJAVA FRUIT EXTRACT
皮膚調理,收斂,抗氧化 1
大麥(HORDEUM VULGARE)芽提取物
HORDEUM VULGARE MALT EXTRACT
皮膚調理,保濕,抗氧化
甜菜鹼
BETAINE
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制 1
尿囊素
ALLANTOIN
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕 1
甘油聚甲基丙烯酸酯
GLYCERYL POLYMETHACRYLATE
保濕,增稠劑,成膜劑,黏度控制 1
PVM/MA 共聚物
PVM/MA COPOLYMER
發用定型,增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
粉防己(STEPHANIA TETRANDRA)提取物
STEPHANIA TETRANDRA EXTRACT
舒敏,收斂
聚 γ-谷氨酸鈉
SODIUM POLYGAMMA-GLUTAMATE
皮膚調理,發用定型,黏度控制,乳化穩定劑 1
吡哆素
PYRIDOXINE
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑 1
水解霍霍巴酯類
HYDROLYZED JOJOBA ESTERS
皮膚調理,頭髮調理,保濕,成膜劑,柔潤劑 1
薄荷酮甘油縮酮
MENTHONE GLYCERIN ACETAL
皮膚調理,清涼劑 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。