赫炎燚水光防護噴霧
品牌:赫炎燚
企業:廣州婷雅麗生物科技有限公司
分類:爽膚噴霧
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
油橄欖(OLEA EUROPAEA)果油
OLEA EUROPAEA (OLIVE) FRUIT OIL
皮膚調理,潤膚劑
角鯊烷
SQUALANE
保濕,潤膚劑 1
二氧化鈦
TITANIUM DIOXIDE
不透明劑 2-8
澳洲堅果籽油聚甘油-6 酯類山嵛酸酯
MACADAMIA SEED OIL POLYGLYCERYL-6 ESTERS BEHENATE
皮膚調理,潤膚劑,清潔劑,表面活性劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
生育酚乙酸酯
TOCOPHERYL ACETATE
抗氧化,保濕 2-3
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
保濕 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
舒緩,修護,皮膚保護,抗氧化,保濕 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
尿囊素
ALLANTOIN
舒緩,保濕 1
硅石
SILICA
吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,膚感調節劑,不透明劑
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
保濕,抗氧化,抗皺,修護,舒緩 1
羥苯甲酯
METHYLPARABEN
防腐劑 、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑 3-4
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)提取物
TREMELLA FUCIFORMIS (MUSHROOM) EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,保濕 1
辛基十二醇硬脂酰氧基硬脂酸酯
OCTYLDODECYL STEAROYL STEARATE
皮膚調理,增稠劑,潤膚劑,黏度控制 1
卡波姆
CARBOMER
增稠劑 1
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
修護,舒緩,抗衰,保濕 1
龍膽(GENTIANA SCABRA)根提取物
GENTIANA SCABRA ROOT EXTRACT
皮膚調理,氣味抑製劑 1
燕麥(AVENA SATIVA)仁提取物
AVENA SATIVA (OAT) KERNEL EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,摩擦劑,潤膚劑 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
pH調節劑 致痘風險等級(低) 6
木糖醇
XYLITOL
皮膚調理,保濕 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕 2
三乙氧基辛基硅烷
TRIETHOXYCAPRYLYLSILANE
粘合劑 1
酸橙(CITRUS AURANTIUM DULCIS)果皮油
CITRUS AURANTIUM DULCIS (ORANGE) PEEL OIL
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕,氣味抑製劑 5-7
脫水木糖醇
ANHYDROXYLITOL
皮膚調理,保濕 1
液體石蠟
PARAFFINUM LIQUIDUM
潤膚劑 、礦物油 1-3
氧化鋁
ALUMINA
填充劑,抗結塊劑 3-7
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
泛內酯
PANTOLACTONE
皮膚調理,保濕 1
辛酰羥肟酸
CAPRYLHYDROXAMIC ACID
螯合劑 1
日本晚櫻(PRUNUS LANNESIANA)花提取物
PRUNUS LANNESIANA FLOWER EXTRACT
皮膚調理,抗氧化

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。