Zwitsal Hypoallergenic Hydrating After Sun milk
品牌:Zwitsal
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
液體石蠟
PARAFFINUM LIQUIDUM
潤膚劑 、礦物油 1-3
乙醇
ALCOHOL
溶劑 酒精 1
辛酸/癸酸甘油三酯
CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE
潤膚劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
三(月桂醇聚醚-4)磷酸酯
TRILAURETH-4 PHOSPHATE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑,乳化穩定劑 2
生育酚乙酸酯
TOCOPHERYL ACETATE
抗氧化,保濕 2-3
植烷三醇
PHYTANTRIOL
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗結塊劑 致痘風險等級(低) 2
抗壞血酸磷酸酯鈉
SODIUM ASCORBYL PHOSPHATE
抗氧化 1
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料
卡波姆
CARBOMER
增稠劑 1
氫氧化鈉
SODIUM HYDROXIDE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑 1-4
黃原膠
XANTHAN GUM
增稠劑 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去角質,pH調節劑 1-2

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。