康麗秀快樂美膚臻純修護肌底面膜
品牌:康麗秀
企業:上海全麗生物科技有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
甘油聚醚-26
GLYCERETH-26
保濕,表面活性劑,黏度控制 1
異戊二醇
ISOPENTYLDIOL
保濕,溶劑 1
雙丙甘醇
DIPROPYLENE GLYCOL
保濕,溶劑,黏度控制 1-2
角叉菜膠鈉
SODIUM CARRAGEENAN
增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
藻酸鈉
ALGIN
增稠劑,粘合劑,黏度控制 1
麥芽糖
MALTOSE
皮膚調理,保濕 1
大葉藻(ZOSTERA MARINA)提取物
ZOSTERA MARINA EXTRACT
皮膚調理 1
藻酸鈣
CALCIUM ALGINATE
皮膚調理,增稠劑,黏度控制 1
乙酰殼糖胺
ACETYL GLUCOSAMINE
皮膚調理,保濕 1
海藻糖
TREHALOSE
皮膚調理,保濕,柔潤劑 1
高山火絨草(LEONTOPODIUM ALPINUM)提取物
LEONTOPODIUM ALPINUM EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
聚天冬氨酸鈉
SODIUM POLYASPARTATE
皮膚調理,保濕,頭髮調理 1
迷迭香(ROSMARINUS OFFICINALIS)葉提取物
ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚調理,收斂,抗氧化 1
母菊(CHAMOMILLA RECUTITA)花提取物
CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT
抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化 2
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物
GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑 5
茶(CAMELLIA SINENSIS)葉提取物
CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT
抗衰,皮膚防護,皮膚調理,收斂,抗氧化,口腔護理,保濕,柔潤劑 1-2
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
虎杖(POLYGONUM CUSPIDATUM)根提取物
POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT
抗衰,舒敏,收斂,抗氧化,保濕 1
粉防己(STEPHANIA TETRANDRA)提取物
STEPHANIA TETRANDRA EXTRACT
舒敏,收斂
透明質酸鈉
SODIUM HYALURONATE
抗衰,皮膚調理,保濕 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,增溶劑,溶劑 1
水解透明質酸鈉
HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE
皮膚調理,頭髮調理,保濕 1
透明質酸鈉交聯聚合物
SODIUM HYALURONATE CROSSPOLYMER
皮膚調理,保濕 1
乙酰化透明質酸鈉
SODIUM ACETYLATED HYALURONATE
皮膚調理,保濕 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
羥苯基丙酰胺苯甲酸
HYDROXYPHENYL PROPAMIDOBENZOIC ACID
皮膚調理 1
姜(ZINGIBER OFFICINALE)根提取物
ZINGIBER OFFICINALE (GINGER) ROOT EXTRACT
抗衰,皮膚調理,抗氧化 1
紅沒藥醇
BISABOLOL
修護,去黑頭,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,保濕 1-2
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。