HNSW多酸凈顏舒養分區面膜
品牌:HNSW
企業:彭氏(惠州)實業發展有限公司
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
甘油
GLYCERIN
保濕 1-2
高嶺土
KAOLIN
吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,不透明劑 1
羥基硬脂酸
HYDROXYSTEARIC ACID
潤膚劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1
甜菜鹼
BETAINE
保濕 1
曼尼古根冰河泥
MANICOUAGAN CLAY
皮膚調理,收斂,吸附劑,清潔劑,表面活性劑 1
膨潤土
BENTONITE
吸附劑,填充劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1-2
二氧化鈦
TITANIUM DIOXIDE
不透明劑 2-8
PEG-150 二硬脂酸酯
PEG-150 DISTEARATE
增稠劑,清潔劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑 致痘風險等級(低)、含PEG的成分 1-3
椰油酰甘氨酸鈉
SODIUM COCOYL GLYCINATE
清潔劑,乳化劑,表面活性劑 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
保濕 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
硬脂酰谷氨酸鈉
SODIUM STEAROYL GLUTAMATE
清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 1
聚丙烯酰基二甲基牛磺酸鈉
SODIUM POLYACRYLOYLDIMETHYL TAURATE
增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
聚甘油-10 月桂酸酯
POLYGLYCERYL-10 LAURATE
皮膚調理,乳化劑 1
泛醇
PANTHENOL@!@UBIQUINOL
修護,舒緩,皮膚保護,抗氧化,保濕 1
羥乙基哌嗪乙烷磺酸
HYDROXYETHYLPIPERAZINE ETHANE SULFONIC ACID
pH調節劑 1
尿囊素
ALLANTOIN
舒緩,保濕 1
氫化聚癸烯
HYDROGENATED POLYDECENE
皮膚調理,頭髮調理,潤膚劑,溶劑 2
月桂酰天冬氨酸鈉
SODIUM LAUROYL ASPARTATE
頭髮調理,增泡劑,清潔劑,表面活性劑,表面活性劑 1
氯化鈉
SODIUM CHLORIDE
皮膚調理,口腔護理,乳化穩定劑 1
聚丙烯酸鈉接枝澱粉
SODIUM POLYACRYLATE STARCH
增稠劑 1
十三烷醇聚醚-10
TRIDECETH-10
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1
硅石
SILICA
吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,膚感調節劑,不透明劑
海茴香(CRITHMUM MARITIMUM)愈傷組織培養物濾液
CRITHMUM MARITIMUM CALLUS CULTURE FILTRATE
修護,舒緩,皮膚保護,抗氧化
乳糖酸
LACTOBIONIC ACID
保濕,抗氧化,去角質 1
甘草酸二鉀
DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE
舒緩,保濕 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
保濕 1
水楊酸
SALICYLIC ACID
祛痘,控油,去屑,去角質 一般防腐劑、孕婦慎用成分 1-3
連翹(FORSYTHIA SUSPENSA)果提取物
FORSYTHIA SUSPENSA FRUIT EXTRACT
抗氧化 1
野葛(PUERARIA LOBATA)根提取物
PUERARIA LOBATA ROOT EXTRACT
美乳,皮膚調理,保濕 1
知母(ANEMARRHENA ASPHODELOIDES)根提取物
ANEMARRHENA ASPHODELOIDES ROOT EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
保濕,溶劑 1
1,2-戊二醇
PENTYLENE GLYCOL
保濕 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。