葆芙元祛痘菁華面膜成分表和安全分析 | 粤G妆网备字2022284740

葆芙元祛痘菁華面膜

品牌：葆芙元
企業：深圳葆芙元生物科技有限公司
分類：其他面膜

成分	概略特性	風險	安心度
水 WATER@!@AQUA	溶劑		1
甘油 GLYCERIN	保濕		1-2
丁二醇 BUTYLENE GLYCOL	保濕		1
丙二醇 PROPYLENE GLYCOL	保濕		3
羥丙基環糊精 HYDROXYPROPYL CYCLODEXTRIN	皮膚調理,膚感調節劑,螯合劑,乳化穩定劑		1
苦參(SOPHORA ANGUSTIFOLIA)根提取物 SOPHORA ANGUSTIFOLIA ROOT EXTRACT	皮膚調理,抗氧化,潤膚劑		1
1,2-己二醇 1,2-HEXANEDIOL	保濕		1
卡波姆 CARBOMER	增稠劑		1
三乙醇胺 TRIETHANOLAMINE	pH調節劑	致痘風險等級（低）	6
對羥基苯乙酮 HYDROXYACETOPHENONE	抗氧化		1
光果甘草(GLYCYRRHIZA GLABRA)根提取物 GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT	舒緩		5
桑(MORUS ALBA)根皮提取物 MORUS ALBA ROOT BARK EXTRACT@!@SOUHAKUHI EKISU	皮膚調理,抗氧化,保濕
黃檗(PHELLODENDRON AMURENSE)樹皮提取物 OUBAKU EKISU@!@PHELLODENDRON AMURENSE BARK EXTRACT	皮膚調理,抗氧化		1
尿囊素 ALLANTOIN	舒緩,保濕		1
枇杷(ERIOBOTRYA JAPONICA)葉提取物 ERIOBOTRYA JAPONICA LEAF EXTRACT	抗衰,皮膚保護,皮膚調理		1
茵陳蒿(ARTEMISIA CAPILLARIS)提取物 ARTEMISIA CAPILLARIS EXTRACT	舒緩,頭髮調理
丹參(SALVIA MILTIORRHIZA)提取物 SALVIA MILTIORRHIZA EXTRACT	抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理		2
1,3-丙二醇 PROPANEDIOL	保濕		2
羥苯甲酯 METHYLPARABEN	防腐劑	、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑	3-4
EDTA 二鈉 DISODIUM EDTA	螯合劑		1
辛酰羥肟酸 CAPRYLHYDROXAMIC ACID	螯合劑		1
己二醇 HEXYLENE GLYCOL	保濕		1
羥乙基纖維素 HYDROXYETHYLCELLULOSE	增稠劑		1
甘油丙烯酸酯/丙烯酸共聚物 GLYCERYL ACRYLATE/ACRYLIC ACID COPOLYMER	保濕,黏度控制		1
甘草酸二鉀 DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE	舒緩,保濕		1
PVM/MA 共聚物 PVM/MA COPOLYMER	發用定型,增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑		1
透明質酸鈉 SODIUM HYALURONATE	抗衰,保濕		1
羧甲基 β-葡聚糖鈉 SODIUM CARBOXYMETHYL BETA-GLUCAN	抗衰,抗氧化,粘合劑,黏度控制		1

溫馨提示：
1、綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。