美墨毛孔凈澈礦物泥面膜
品牌:美墨
企業:山西美墨生物科技有限公司
分類:清潔/泥類面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
高嶺土
KAOLIN
吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,不透明劑 1
膨潤土
BENTONITE
吸附劑,填充劑,增稠劑,黏度控制,乳化穩定劑 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
摩洛哥熔岩粘土
MOROCCAN LAVA CLAY
去角質,吸附劑,填充劑,增稠劑,摩擦劑,黏度控制,不透明劑,乳化穩定劑 1
CI 77891
CI 77891
著色劑 色素
油酸
OLEIC ACID
皮膚調理,頭髮調理,增稠劑,柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(高) 1
花生酸
ARACHIDIC ACID
清潔劑,表面活性劑,不透明劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 1
肉豆蔻酸
MYRISTIC ACID
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(中) 1
棕櫚酸
PALMITIC ACID
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 1
月桂酸
LAURIC ACID
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 致痘風險等級(高) 1
硬脂酸
STEARIC ACID
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,賦脂劑,乳化劑,乳化穩定劑 致痘風險等級(低) 1
鯨蠟硬脂醇
CETEARYL ALCOHOL
皮膚調理,增稠劑,柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,黏度控制,不透明劑,乳化劑,乳化穩定劑 致痘風險等級(低) 1
三乙醇胺
TRIETHANOLAMINE
清潔劑,表面活性劑,pH調節劑,乳化劑 致痘風險等級(低) 5
甘油硬脂酸酯 SE
GLYCERYL STEARATE SE
乳化劑,表面活性劑 致痘風險等級(中) 1
鯨蠟醇乙基己酸酯
CETYL ETHYLHEXANOATE
皮膚調理,增稠劑,柔潤劑 1
聚丙烯酰胺
POLYACRYLAMIDE
增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑 2-4
C13-14 異鏈烷烴
C13-14 ISOPARAFFIN
皮膚調理,柔潤劑,溶劑 1
月桂醇聚醚-7
LAURETH-7
清潔劑,表面活性劑,乳化劑 1-3
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
硅酸鋁鎂
MAGNESIUM ALUMINOMETASILICATE@!@MAGNESIUM ALUMINUM SILICATE
吸附劑,填充劑,增稠劑,懸浮劑,抗結塊劑,穩定劑,黏度控制,不透明劑,乳化穩定劑 1
杏(PRUNUS ARMENIACA)籽粉
PRUNUS ARMENIACA (APRICOT) SEED POWDER
皮膚調理,去角質,摩擦劑 1
野草莓(FRAGARIA VESCA)籽
FRAGARIA VESCA (STRAWBERRY) SEED
皮膚調理,收斂,去角質 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
乙基己基甘油
ETHYLHEXYLGLYCERIN
皮膚調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑 2
煙酰胺
NIACINAMIDE
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,去角質,保濕 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
對羥基苯乙酮
HYDROXYACETOPHENONE
抗氧化 1
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
CENTELLA ASIATICA EXTRACT
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑 1
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
百脈根(LOTUS CORNICULATUS)籽提取物
LOTUS CORNICULATUS SEED EXTRACT
祛痘,皮膚調理
銀耳(TREMELLA FUCIFORMIS)子實體提取物
TREMELLA FUCIFORMIS SPOROCARP EXTRACT
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。