Garnier SkinActive Clean + Pore Purifying Clay Cleanser Mask
品牌:卡尼爾
分類:清潔/泥類面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
溶劑 1
高嶺土
KAOLIN
吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,不透明劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
玉米(ZEA MAYS)澱粉
ZEA MAYS (CORN) STARCH
皮膚防護,抗結塊劑,摩擦劑,黏度控制 1
癸基葡糖苷
DECYL GLUCOSIDE
增稠劑,清潔劑,表面活性劑,乳化穩定劑,表面活性劑 2
月桂醇聚醚硫酸酯鈉
SODIUM LAURETH SULFATE
增泡劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑,表面活性劑 SLS/SLES表面活性劑 1-3
角叉菜膠
Carrageenan
皮膚調理,增稠劑 1
PEG-7 甘油椰油酸酯
PEG-7 GLYCERYL COCOATE
柔潤劑,清潔劑,溶劑,表面活性劑,乳化劑 含PEG的成分 1-4
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
EDTA 四鈉
TETRASODIUM EDTA
螯合劑 2
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
CI 77499
CI 77499
著色劑 色素
生育酚(維生素E)
TOCOPHEROL
修護,抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕 致痘風險等級(低) 1
水楊酸
SALICYLIC ACID
去黑頭,祛痘,皮膚調理,控油,去屑,頭髮調理,去角質,保濕,防腐劑,不透明劑 一般防腐劑、孕婦慎用成分 1-3
羥基乙酸
GLYCOLIC ACID
祛痘,皮膚調理,去角質,pH調節劑 1-4
葡糖酸鋅
ZINC GLUCONATE
祛痘,皮膚調理,控油,口腔護理,氣味抑製劑 2-3
抗壞血酸葡糖苷
ASCORBYL GLUCOSIDE
皮膚調理,保濕,抗氧化 1
薄荷醇
MENTHOL
舒敏,皮膚調理,收斂,頭髮調理,變性劑,清涼劑 1
檸檬酸
CITRIC ACID
去黑頭,去角質,保濕,螯合劑,pH調節劑 1-2
炭粉
CHARCOAL POWDER
皮膚調理,控油,去角質,吸附劑,摩擦劑,不透明劑 1
聚甘油-10
POLYGLYCERIN-10
皮膚調理,保濕 1
聚甘油-10 肉豆蔻酸酯
POLYGLYCERYL-10 MYRISTATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
聚甘油-10 硬脂酸酯
POLYGLYCERYL-10 STEARATE
皮膚調理,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑 1
脫氫乙酸鈉
SODIUM DEHYDROACETATE
防腐劑,不透明劑 一般防腐劑 1

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。