AVEENO POSITIVELY RADIANT MAXGLOW PEEL OFF MASK WITH AHAS + SOY + KIWI
品牌:艾惟諾
分類:其他面膜
成分 概略特性 活性 風險 安心度
WATER@!@AQUA
皮膚調理,溶劑 1
酵母發酵產物提取物
YEAST FERMENT EXTRACT
皮膚調理,抗氧化 1
EDTA 二鈉
DISODIUM EDTA
螯合劑,黏度控制 1
聚乙酸乙烯酯
POLYVINYL ACETATE
成膜劑,抗靜電,粘合劑,乳化穩定劑 3
檸檬酸
CITRIC ACID
去黑頭,去角質,保濕,螯合劑,pH調節劑 1-2
1,2-己二醇
1,2-HEXANEDIOL
皮膚調理,保濕,溶劑 1
乙醇
ALCOHOL
收斂,消泡劑,溶劑,黏度控制 酒精 1
酵母提取物
YEAST EXTRACT@!@FAEX
修護,抗衰,皮膚防護,皮膚調理,保濕,抗氧化 1
黃原膠
XANTHAN GUM
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑 1
丁二醇
BUTYLENE GLYCOL
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制 1
纖維素膠
CELLULOSE GUM
增稠劑,成膜劑,粘合劑,黏度控制,乳化穩定劑 1
辛甘醇
CAPRYLYL GLYCOL
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑,氣味抑製劑,溶劑 1
苯氧乙醇
PHENOXYETHANOL
防腐劑 一般防腐劑 2-4
苯乙烯/丙烯酸(酯)類共聚物
STYRENE/ACRYLATES COPOLYMER
成膜劑,不透明劑 2
聚乙烯醇
POLYVINYL ALCOHOL
增稠劑,成膜劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑 1
甘油
GLYCERIN
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制 1-2
羥基乙酸
GLYCOLIC ACID
祛痘,皮膚調理,去角質,pH調節劑 1-4
庫拉索蘆薈(ALOE BARBADENSIS)葉水
ALOE BARBADENSIS LEAF WATER
抗氧化,保濕 1-3
變性乙醇
ALCOHOL DENAT.
收斂,消泡劑,溶劑,黏度控制 酒精 1
溫泉水
ONSEN-SUI
溶劑
野大豆(GLYCINE SOJA)蛋白
GLYCINE SOJA (SOYBEAN) PROTEIN
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,表面活性劑,乳化劑 1
(日用)香精
FRAGRANCE
吸附劑,香精香料 香精香料
CI 19140
CI 19140@!@KI4
著色劑 色素 4-6
CI 42090
CI 42090@!@AO1@!@AO205
著色劑 色素 2-7

溫馨提示:
1、 綠色表示安全。橙色表示較安全。紅色表示潛在風險成分。灰色表示暫無數據。
2、安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
3、致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。